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1800 डिग्री उच्च तन्यता सिलिकॉन मोलिब्डेनम रॉड हीटिंग तत्व मफल भट्ठी के लिए

ग्राहक समीक्षा
एनजीके शांक्सी केगू के साथ हमारी लंबे समय से चली आ रही साझेदारी को महत्व देता है। उनके एसSiC सिरेमिक गुणवत्ता और नवाचार में उत्कृष्ट हैं, जो हमारी आपसी सफलता को बढ़ावा देते हैं। निरंतर सहयोग के लिए यहाँ!

—— एनजीके थर्मल टेक्नोलॉजी कंपनी लिमिटेड

हुईके में, हमें शानक्सी केगु न्यू मटेरियल टेक्नोलॉजी कंपनी लिमिटेड के साथ अपनी लंबे समय से चली आ रही साझेदारी पर गर्व है, जो विश्वास, नवाचार और साझा उत्कृष्टता में निहित है। SSiC सिरेमिक और विश्वसनीय समाधानों में उनकी विशेषज्ञता ने लगातार हमारी परियोजनाओं का समर्थन किया है।

—— सूज़ौ हुईके टेक्नोलॉजी कंपनी लिमिटेड

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—— केडा इंडस्ट्रियल ग्रुप कंपनी लिमिटेड

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1800 डिग्री उच्च तन्यता सिलिकॉन मोलिब्डेनम रॉड हीटिंग तत्व मफल भट्ठी के लिए

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बड़ी छवि :  1800 डिग्री उच्च तन्यता सिलिकॉन मोलिब्डेनम रॉड हीटिंग तत्व मफल भट्ठी के लिए

उत्पाद विवरण:
उत्पत्ति के प्लेस: चीन
ब्रांड नाम: KEGU
मॉडल संख्या: अनुकूलन योग्य
भुगतान & नौवहन नियमों:
मूल्य: 200-500 yuan/kg
पैकेजिंग विवरण: वैश्विक शिपिंग के लिए मजबूत लकड़ी के बक्से
भुगतान शर्तें: एल/सी, डी/ए, डी/पी, टी/टी, वेस्टर्न यूनियन, मनीग्राम
आपूर्ति की क्षमता: 2,000 पीसी / माह

1800 डिग्री उच्च तन्यता सिलिकॉन मोलिब्डेनम रॉड हीटिंग तत्व मफल भट्ठी के लिए

वर्णन
सामग्री: इस प्रकार से रचना: sic: > 98%
रंग: काला घनत्व: ≥3.05g/cm3
अधिकतम। सेवा अस्थायी: 1650 ℃ आनमनी सार्मथ्य: 380MPA
रचना: sic: > 85% घनत्व: ≥3.0g/cm3
अधिकतम। सेवा अस्थायी: 1380℃ आनमनी सार्मथ्य: 250 एमपीए
आकार: अनुकूलित घनत्व: 2.5/2.6 ग्राम/सेमी 3
गर्मी चालन: 23.26 w/(m · ℃) प्रतिरोधकता: 1000 ~ 2000 ω · मिमी 2/एम
तन्य शक्ति: 39.2 ~ 49 एमपीए आनमनी सार्मथ्य: 70 ~ 90 एमपीए
घनत्व: 2.5 ~ 2.6g/cm¯ अधिकतम। सेवा अस्थायी।: 1500 ℃
आनमनी सार्मथ्य: 70-90 एमपीए रैखिक थर्मल विस्तार गुणांक (20-1500 ℃): 5 × 10⁻⁶/℃
विधुतीय प्रतिरोधकर्ता: 1000 ~ 2000।
प्रमुखता देना:

भट्ठी हीटिंग तत्व

,

भट्टी एसआईसी हीटर तत्व

,

मफल ओवन हीटिंग तत्व

मफल फर्नेस के लिए उच्च तन्यता सिलिकॉन मोलिब्डेनम रॉड हीटिंग तत्व



सिलिकॉन मोलिब्डेनम हीटिंग तत्व का सामान्य विवरण

1. सिलिकॉन मोलिब्डेनम रॉड हीटिंग तत्व मोलिब्डेनम डाइसिलिसाइड से बना एक प्रकार का प्रतिरोध हीटिंग तत्व है। इसे ऑक्सीकृत वातावरण के उच्च तापमान पर लगाया जा सकता है। MoSi2 तत्वों में उच्च तापमान विरोधी ऑक्सीकरण का अनूठा कार्य होता है। ऑक्सीकृत वातावरण में, MoSi2 तत्वों का अधिकतम तापमान 1800°C होता है। इसे विभिन्न प्रकारों में बनाया जा सकता है, जिसमें यू-प्रकार, डब्ल्यू-प्रकार, समकोण के साथ-साथ गोलाकार प्रकार भी शामिल हैं।


MoSi2 हीटिंग रॉड का सामान्य तापमान 1300°C से 1800°C तक होता है, जो धातु विज्ञान, कांच, सिरेमिक, चुंबकीय मैट्रिक्स, दुर्दम्य सामग्री, क्रिस्टल, इलेक्ट्रॉन उपकरणों और भट्टी आदि के क्षेत्र में सार्वभौमिक रूप से लागू होता है। यह उच्च तापमान एनीलिंग का आदर्श हीटिंग तत्व है।


2. के आयाम विनिर्देशसिलिकॉन मोलिब्डेनम रॉड हीटिंग तत्व


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सिलिकॉन मोलिब्डेनम रॉड हीटिंग तत्वों का विद्युत गुण

1)प्रतिरोध गुण

तापमान बढ़ने पर तत्व का प्रतिरोधकता तेजी से बढ़ती है। सामान्य परिचालन स्थितियों के तहत, आम तौर पर तत्व प्रतिरोध सेवा समय बदलने के साथ नहीं बदलता है। इसलिए पुराने और नए तत्वों का मिश्रित उपयोग किया जा सकता है।


2) सतह भार


संरचना के अनुसार, घटकों के सही चुनाव में तापमान और वातावरण सतह भार उच्चतम जीवन के लिए महत्वपूर्ण तत्व है। चित्र दिखाता है कि थर्मल विकिरण घटकों के बिना सतह तापमान, तत्व तापमान और सतह भार के बीच का संबंध है। छायांकित भाग सामान्य सतह भार के लिए है-----तापमान सीमा।


स्थापना और सहायक उपकरण

1) स्थापना की सलाह

कमरे के तापमान पर मोसी2 हीटिंग तत्व बहुत भंगुर होता है और उच्च तापमान पर प्लास्टिक होता है। इसलिए, यू प्रकार के तत्व को लंबवत रूप से लटकाना स्थापना का सबसे अच्छा तरीका है। इस तरह से तत्व के हॉट ज़ोन पर सीधे यांत्रिक तनाव डालने से बचा जा सकता है, अन्यथा, तत्व आसानी से टूट जाएगा। यदि इसे क्षैतिज रूप से हाथ से लगाने की आवश्यकता है, तो कृपया उच्च तापमान दुर्दम्य का समर्थन चुनें।


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2) सहायक उपकरण

क्लिप का तापमान 200 से कम होना चाहिए.C; क्लिप और तत्व के बीच संपर्क वोल्टेज 0.1V से कम होना चाहिए। क्लिप के निचले सिरे और ईंट के ऊपरी सतह के बीच की दूरी 50 मिमी से अधिक होनी चाहिए, ताकि क्लिप में विकिरण गर्मी चालन से बचा जा सके.


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MoSi2 हीटिंग तत्वों के भौतिक और रासायनिक लक्षण:

1) भौतिक लक्षण

आयतन घनत्व बेंडिंग स्ट्रेंथ विकर्स कठोरता सरंध्रता पानी का अवशोषण हीटिंग बढ़ाव दर
5.5 ग्राम/सेमी3 15-25 किग्रा/सेमी3 (HV)570 किग्रा/मिमी2 7.4% 1.2% 4%


2.) रसायन विज्ञान चरित्र
MoSi2 हीटिंग तत्व का उपयोग ऑक्सीकरण वातावरण में उच्च तापमान पर किया जाता है। यह SiO2 फिल्म बनाएगा जो तत्व को पिघलने से बचा सकता है। ऑक्सीकरण प्रक्रिया के दौरान, SiO2 सुरक्षात्मक फिल्म फिर से बनती है जब तत्व का उपयोग जारी रहता है।


मफल फर्नेस चित्रों के लिए सिलिकॉन मोलिब्डेनम रॉड हीटिंग तत्व:


यू आकार


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अन्य आकार:


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गुणवत्ता नियंत्रण:

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सम्पर्क करने का विवरण
Shaanxi KeGu New Material Technology Co., Ltd

व्यक्ति से संपर्क करें: Ms. Yuki

दूरभाष: 8615517781293

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