ジルコニアマイクロフィルターセラミック膜

ज़िरकोनिया माइक्रोफिल्ट्रेशन सिरेमिक झिल्ली उच्च शुद्धता वाले यट्रिया-स्थिर ज़िरकोनिया (YSZ) से उन्नत सिरेमिक प्रसंस्करण और सटीक उच्च-तापमान सिंटरिंग तकनीक का उपयोग करके निर्मित की जाती हैं। मल्टीलेयर एसिमेट्रिक संरचना के साथ डिज़ाइन की गई, ये झिल्लियाँ उत्कृष्ट रासायनिक स्थिरता को उच्च यांत्रिक शक्ति और विश्वसनीय माइक्रोफिल्ट्रेशन प्रदर्शन के साथ जोड़ती हैं।

पारंपरिक सिरेमिक झिल्लियों की तुलना में, ज़िरकोनिया झिल्लियाँ आक्रामक रसायनों के प्रति उत्कृष्ट प्रतिरोध प्रदर्शित करती हैं, जिससे वे विशेष रूप से मजबूत एसिड, मजबूत क्षार, ऑक्सीकरण रसायनों और उच्च-नमक समाधानों से युक्त अत्यधिक संक्षारक प्रक्रिया धाराओं के लिए उपयुक्त होती हैं।

छिद्र आकार के साथ 0.1 माइक्रोन से 5 माइक्रोन तक, ज़िरकोनिया माइक्रोफिल्ट्रेशन झिल्लियों का व्यापक रूप से रासायनिक प्रसंस्करण, इलेक्ट्रॉनिक्स निर्माण, इलेक्ट्रोप्लेटिंग अपशिष्ट जल उपचार और औद्योगिक प्रक्रिया निस्पंदन में उपयोग किया जाता है।

ज़िरकोनिया झिल्ली निस्पंदन के लिए उपलब्ध सबसे रासायनिक रूप से स्थिर सिरेमिक सामग्रियों में से एक है।

में निरंतर संचालन के लिए उपयुक्त:

• मजबूत एसिड
• मजबूत क्षार
• ऑक्सीकरण रसायन
• संक्षारक औद्योगिक समाधान

अत्यधिक आक्रामक रासायनिक वातावरण में दीर्घकालिक स्थिरता प्रदान करता है जहाँ पारंपरिक झिल्ली सामग्री खराब हो सकती है।

के लिए उपयुक्त:

• रासायनिक प्रसंस्करण
• इलेक्ट्रोकेमिकल उद्योग
• एसिड पुनर्जनन
• उच्च-नमक प्रक्रिया धाराएँ

घने सिरेमिक संरचना प्रदान करती है:

• उत्कृष्ट दबाव प्रतिरोध
• घर्षण प्रतिरोध
• लंबा सेवा जीवन
• स्थिर निस्पंदन प्रदर्शन

आक्रामक सफाई प्रक्रियाओं के साथ संगत है, जिसमें शामिल हैं:

• एसिड सफाई
• क्षार सफाई
• ऑक्सीडेंट सफाई
• रासायनिक सफाई-इन-प्लेस (CIP)

• 0.1 माइक्रोन
• 0.2 माइक्रोन
• 0.5 माइक्रोन
• 1.2 माइक्रोन
• 5 माइक्रोन

संक्षारक रासायनिक उत्पादन के लिए स्पष्टीकरण और ठोस-तरल पृथक्करण।

मूल्यवान प्रक्रिया एसिड की पुनर्प्राप्ति और शुद्धिकरण।

रासायनिक और धातुकर्म उद्योगों द्वारा उत्पन्न केंद्रित खारे अपशिष्ट जल का उपचार।

अल्ट्रा-क्लीन प्रक्रिया रसायनों से निलंबित कणों को हटाना।

प्लेटिंग समाधानों का निस्पंदन और मूल्यवान प्रक्रिया रसायनों की पुनर्प्राप्ति।

• उच्चतम रासायनिक स्थिरता
• उत्कृष्ट संक्षारण प्रतिरोध
• उत्कृष्ट यांत्रिक शक्ति
• आक्रामक रासायनिक वातावरण में विश्वसनीय प्रदर्शन
• लंबा परिचालन जीवनकाल

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