再結晶されたシリコンカービッド RSiC 平板陶器膜

高純度の炭化ケイ素微粉末を再結晶焼結法により製造した高精度濾過膜です。高フラックス、優れた耐食性、容易な洗浄、長寿命が特徴です。

再結晶化プロセスでは、粗い高純度 SiC 粉末と高反応性 SiC 微粉末を混合し、その後、高温で真空焼結して再結晶化を引き起こします。これにより、中間結合相のない高純度の炭化ケイ素材料が得られ、優れた高温機械的特性、化学的安定性、耐熱衝撃性を実現します。

SiC 含有量が 99% 以上で、粒界結合相がないこの材料は、優れた化学的安定性を示します。極端な pH 環境 (pH 1 ～ 14) に耐え、すべての有機溶媒に耐性があるため、強酸、強アルカリ、およびさまざまな腐食性媒体の中でも長期間にわたって確実に動作できます。

従来のポリマー膜や酸化物ベースのセラミック膜と比較して、再結晶炭化ケイ素材料は高温で顕著な挙動を示します。

• 温度が上がると強度が増す– 破壊係数は、20°C で 90 ～ 100 MPa から 1200°C で 100 ～ 110 MPa に上昇します。これはセラミック材料の中では珍しい特性です。
• 優れた熱伝導性– 1200°C で 35 ～ 36 W/(m・K) に達し、高温プロセスにおける効率的な熱伝達と放散を促進します。
• 優れた耐熱衝撃性– 亀裂を発生させることなく急激な温度変動に耐えることができるため、頻繁な起動/停止や温度条件が変化するプロセスに最適です。
• 最高使用温度1650℃(酸化性雰囲気中)、通常のセラミック膜や有機膜の限界をはるかに超えています。

この膜は、高い硬度 (1800 ～ 2000 kg/mm²)、良好な破壊靱性 (1.8 ～ 2.0 MPa·m¹/²)、および 300 MPa の圧壊強度を備えています。これらの堅牢な機械的特性により、高圧、高流量、微粒子の多い条件下での構造的完全性と長期耐久性が保証されます。

再結晶化された炭化ケイ素材料は、固有の親水性と高度に多孔性の相互接続された細孔構造を備えており、高い透過流束を可能にします。高流束により、装置の設置面積が小さくなり、処理体積単位あたりのエネルギー消費量が低くなります。さらに、膜表面は汚れがつきにくいため、より効率的な逆洗と現場洗浄手順が可能となり、メンテナンスが簡素化され、ダウンタイムが削減されます。

上記の性能上の利点を活用して、この再結晶炭化ケイ素プレート セラミック膜は以下の用途に広く適用できます。

• 環境と水処理– 都市廃水処理、産業廃水処理および再利用、海水淡水化前処理、および油性エマルション廃水処理
• 化学および石油化学産業– 石油精製および石炭化学プロセスにおける油水分離、石炭スラリー水処理、および酸性/アルカリ性媒体の濾過
• 食べ物と飲み物– フルーツジュース、ワイン、飲料の清澄と濾過。乳製品の脱菌と濃縮だけでなく
• バイオ医薬品– 発酵液の清澄、抗生物質の精製、漢方薬からの有効成分の抽出/精製
• 新エネルギー・先端材料– ナノマテリアル、リチウム電池材料、グラフェン、その他の高度な微粒子の超微細分離

この再結晶炭化ケイ素プレートセラミック膜は、純度 99% 以上、1650°C の温度耐性、優れた高温機械的性能、優れた化学的安定性と耐熱衝撃性を備えており、高度なろ過および分離用途において明確な技術的利点を提供します。高温や強い腐食などの極限条件に直面する場合でも、高磁束で長寿命の動作を追求する場合でも、この製品は、さまざまな産業ニーズに対応する信頼性が高くコスト効率の高いソリューションを提供します。