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使用温度:約2200摂氏度
熱伝導率:30-50 W/mK
属性:熱分解窒化ホウ素るつぼ
使用法:ガスの霧化
アプリケーション:真空の炉
特徴:窒化ホウ素るつぼ
構成:BN>99%
最大動作温度:1000°C
熱衝撃耐性:素晴らしい
形:不規則