Подложки на основе оксида алюминия (Al2O3), нитрида алюминия (AlN), нитрида кремния (Si3N4) и других керамических материалов
Подложки на основе оксида алюминия (Al2O3), нитрида алюминия (AlN), нитрида кремния (Si3N4) и других керамических материалов, благодаря своим свойствам, широко используются в электронной промышленности.
| Характеристика / Материал |
Al2O3 96% |
Al2O3 99,6% |
AlN |
Si3N4 |
| Кажущаяся плотность, г/см3 |
3,7-3,8 |
3,8-3,9 |
3,3 |
3,5 |
| Твердость по Виккерсу, ГПа |
16 |
21 |
11 |
15 |
| Прочность при изгибе, МПа |
500 |
400 |
320 |
750 |
| Модуль упругости, ГПа |
340 |
350 |
320 |
300 |
| Теплопроводность, Вт/(м·К) |
24 |
28 |
180 |
55 |
| ТКЛР, 10-6/°К |
6,8-8,0 |
6,8-8,5 |
4,7-5,6 |
2,7 |
| Электрическая прочность, кВ/мм |
15 |
10 |
16 |
36 |
| Объемное сопротивление, Ом*м |
>1012 |
>1012 |
>1012 |
>1012 |
| Диэлектрическая проницаемость |
9,8 |
9,9 |
8,9 |
8,5 |
Основные области применения:
- подложки керамических печатных плат (PCB);
- подложки для металлизации по толстопленочной и тонкопленочной технологиям;
- полированные подложки для металлизации по тонкопленочной технологии;
- подложки для светодиодов, лазерных диодов;
- прецизионные подложки для микроволновых интегральных схем и микросборок с высокой плотностью отверстий и канавок для кристаллов;
- многоплатные сборки для наборов резисторов, реостатов, датчиков уровня топлива, давления и т.д.;
- носители сенсорных схем ядовитых веществ, ионизирующего излучения, магнитного поля и т.д.;
- подложки для ионизаторов и озонаторов воздуха;
- изолирующие прокладки для отвода тепла от электронных компонентов к радиатору охлаждения;
- протекторы для элементов пьезоэлектрических преобразователей;
- основания и держатели плоских нагревательных элементов, кристаллов мощных полупроводниковых приборов;
- пластины для термоэлектрических модулей (элементов Пельтье);
- экраны для радиочастотных плазменных генераторов.
Особенности применения изделий из оксида алюминия (Al2O3)
Оксид алюминия (Al2O3) обладает превосходным сочетанием характеристик материала и наименьшей стоимостью. Высокая механическая прочность, твердость, износостойкость, огнестойкость, теплопроводность, химическая инертность позволяют в некоторых случаях заменить более дорогие материалы для снижения стоимости производства.
Содержание Al2O3 варьируется от 96% до 99,7%, толщина от 0,25 мм. Поверхность может быть шлифованной или полированной, возможна металлизация и любая геометрия.
Особенности применения изделий из нитрида алюминия (AlN)
Благодаря своим превосходным изоляционным свойствам, высокой теплопроводности, прочности и низкому коэффициенту теплового расширения, нитрид алюминия AlN используется в мощных электронных устройствах, биполярных транзисторах с изолированным затвором (IGBT), системах связи, светодиодных индикаторах, пассивных компонентах, устройствах охлаждения, прямом соединении компонентов на меди-нагруженном припое. Содержание AlN варьируется от 96% до 99,7%, толщина от 0,25 до 11 мм. Варианты обработки для тонкопленочных и толстопленочных структур: шлифовка и полированная поверхность. Возможна металлизация и любая геометрия.
Особенности применения изделий из нитрида кремния (Si3N4)
Нитрид кремния (Si3N4) обладает исключительными механическими свойствами при непрерывном термическом циклировании, в глубоком вакууме, в режиме повышенного трения и в других тяжелых условиях эксплуатации. Отличная износостойкость и очень высокая прочность при изгибе позволяют изготавливать подложки толщиной 0,3 мм, что дает низкие значения теплового сопротивления (это можно сравнить с нитридом алюминия толщиной 1,0 мм) при значительном улучшении механических характеристик, которые стабильны в широком диапазоне температур и других условиях агрессивной среды.
Нитрид кремния обладает высокой радиационной стойкостью, коррозионной стойкостью и значительной электрической прочностью по сравнению с другими керамическими материалами.
Ваше сообщение должно содержать от 20 до 3000 символов!
