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0.8 g/cm3 Weiße Keramikplatte aus Aluminiumoxid für kratzfreie Veredelung und hohe Schleifleistung beim Waferpolieren

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Bescheinigung
China Shaanxi KeGu New Material Technology Co., Ltd zertifizierungen
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Kunden-Berichte
NGK schätzt unsere langjährige Partnerschaft mit Shaanxi Kegu. Ihre SSiC-Keramiken zeichnen sich durch Qualität und Innovation aus und treiben unseren gemeinsamen Erfolg voran. Auf weiterhin gute Zusammenarbeit!

—— NGK Thermal Technology Co.,Ltd

Bei Huike sind wir stolz auf unsere langjährige Partnerschaft mit der Shaanxi Kegu New Material Technology Co., Ltd., eine Zusammenarbeit, die auf Vertrauen, Innovation und gemeinsamer Exzellenz basiert.Ihre Expertise in SSiC-Keramik und zuverlässige Lösungen haben unsere Projekte konsequent unterstützt.

—— Suzhou Huike Technology Co.,Ltd.

Wir bei Keda schätzen unsere langjährige Partnerschaft mit Shaanxi Kegu New Material Technology Co., Ltd. sehr. Ihre hochwertigen SSiC-Keramik-Lösungen sind ein wesentlicher Bestandteil unserer Projekte und wir freuen uns auf die weitere Zusammenarbeit und den gemeinsamen Erfolg.

—— Keda Industrial Group Co.,Ltd.

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0.8 g/cm3 Weiße Keramikplatte aus Aluminiumoxid für kratzfreie Veredelung und hohe Schleifleistung beim Waferpolieren

0.8g/cm³ White Aluminum Oxide Ceramic Plate for Scratch-Free Finishing and High Grinding Efficiency in Wafer Polishing
0.8g/cm³ White Aluminum Oxide Ceramic Plate for Scratch-Free Finishing and High Grinding Efficiency in Wafer Polishing 0.8g/cm³ White Aluminum Oxide Ceramic Plate for Scratch-Free Finishing and High Grinding Efficiency in Wafer Polishing 0.8g/cm³ White Aluminum Oxide Ceramic Plate for Scratch-Free Finishing and High Grinding Efficiency in Wafer Polishing 0.8g/cm³ White Aluminum Oxide Ceramic Plate for Scratch-Free Finishing and High Grinding Efficiency in Wafer Polishing 0.8g/cm³ White Aluminum Oxide Ceramic Plate for Scratch-Free Finishing and High Grinding Efficiency in Wafer Polishing 0.8g/cm³ White Aluminum Oxide Ceramic Plate for Scratch-Free Finishing and High Grinding Efficiency in Wafer Polishing 0.8g/cm³ White Aluminum Oxide Ceramic Plate for Scratch-Free Finishing and High Grinding Efficiency in Wafer Polishing 0.8g/cm³ White Aluminum Oxide Ceramic Plate for Scratch-Free Finishing and High Grinding Efficiency in Wafer Polishing

Großes Bild :  0.8 g/cm3 Weiße Keramikplatte aus Aluminiumoxid für kratzfreie Veredelung und hohe Schleifleistung beim Waferpolieren

Produktdetails:
Herkunftsort: China
Markenname: KEGU
Modellnummer: Anpassbar
Zahlung und Versand AGB:
Preis: 200-500 yuan/kg
Verpackung Informationen: Starke Holzkisten für den weltweiten Versand
Zahlungsbedingungen: L/C, D/A, D/P, T/T, Western Union, MoneyGram
Versorgungsmaterial-Fähigkeit: 2.000 PC/Monat
Kontakt

0.8 g/cm3 Weiße Keramikplatte aus Aluminiumoxid für kratzfreie Veredelung und hohe Schleifleistung beim Waferpolieren

Beschreibung
Material: Sic Zusammensetzung:SiC: >85 %
Farbe: Schwarz Dichte: ≥ 3,65 g/cm3
Max. Service-Temp: 1380 ℃ Biegefestigkeit: 250 MPa
Härte: ≥84HRA Wasseraufnahme: ≤ 0,2%
Abrasionen: < 0,02% Biegefestigkeit: ≥290MPa
Hervorheben:

Weiße Aluminiumoxidkeramik

,

0.8g/cm³ Aluminiumoxid-Keramik

,

Wafer-Schleifen-Aluminiumoxid-Keramikplatte

0.8g/cm3 Weiße Aluminium-Oxid-Keramikplatte Wafermahlen und Polieren
Weiße Aluminiumkeramikplatte mit geringer Dichte (0,8 g/cm3) für das Präzisionsschleifen. Erreicht Spiegelveredelungen auf Halbleiterwafern und Metallhülsen ohne Kratzer. Anforderung Spezifikationen.
Weiße Keramikplatte aus Aluminiumoxid mit geringer Dichte zur Präzisionsschleifen und Polieren
Unsere weiße Aluminium-Oxid-Keramikplatte, die für eine hochpräzise Oberflächenveredelung entwickelt wurde, ist das bevorzugte Material, um makellose, kratzfreie Spiegelveredelungen an hochwertigen Bauteilen zu erzielen.mit einer außergewöhnlich geringen Dichte und einer einzigartigen plattenartigen Kristallstruktur, bietet es eine überlegene Leistung in den anspruchsvollsten Halbleiter- und fortschrittlichen Fertigungsanwendungen.
Wesentliche Merkmale und Vorteile
  • Schablonschutz:Die glatte, plattengleiche Kristallmorphologie gleitet über Oberflächen, wodurch das Risiko von Mikro-Kratzern und Oberflächenfehlern effektiv minimiert wird.
  • Hohe Schleifwirkung:Kombiniert hohe Härte mit einer engen Partikelgrößenverteilung für eine starke, konsistente und kontrollierbare Materialentfernung.
  • Optimiert für die Elektronikherstellung:Hohe Reinheit (≥99,5% Al2O3) und chemisch inert, so dass empfindliche Materialien wie Siliziumwafer nicht kontaminiert werden.
  • Niedrige Dichte und kontrollierte Porosität:Die poröse Struktur (≥ 0,8 g/cm3) trägt zu einem geringeren Gewicht bei und kann für spezifische Anforderungen an die Rückhaltung von Kühlmittel oder Schlamm ausgelegt werden.
Technische Spezifikation
Parameter Klasse WCA Klasse WCA-3 Einheit
Al2O3 Reinheit ≥ 99,5 ≥ 99,5 %
Größe der ursprünglichen Kristalle 10 - 20 ~ 3 Jahre.0 μm
Massendichte ≥ 08 ≥ 06 G/cm3
Ölabsorption ≤ 65 ≤ 75 %
Aussehen Weißes Pulver Weißes Pulver -
Hauptanwendungen
Diese spezielle Aluminiumkeramik eignet sich ideal für:
  • Halbleiterherstellung:Lappung und Polieren von monokristallinen Siliziumwafern und anderen Kristallwafern.
  • Verbraucherelektronik:Hochglänzende Spiegelpolierung von Metallgehäusen für Mobiltelefone und anderen Präzisionskomponenten.
  • Erweiterte Optik:Veredelung von Glas und kristallinen Materialien, bei denen die Oberflächenintegrität kritisch ist.
Warum wählen Sie unsere Keramikplatte aus Aluminium?
Bei der Präzisionsschleifen ist das Schleifmaterial ebenso wichtig wie die Ausrüstung.Unser Produkt wurde speziell entwickelt, um die Kern Herausforderung zu lösen, hohe Materialentfernungsraten zu erreichen, ohne die Oberflächenqualität zu beeinträchtigenDie einzigartige Kombination vonhohe Reinheit, plattenartige Kristalle und geringe DichteEs ist ein unentbehrliches Werkzeug für Hersteller, die sich keine Oberflächenkratzer oder Kontaminationen leisten können.
Erforschen Sie unsere Schleiflösungen
Wir bieten verschiedene Qualitäten (wie WCA und WCA-3) an, die Ihren spezifischen Prozessanforderungen entsprechen, vom groben Lappen bis zum finalen Polieren. Kontaktieren Sie uns noch heute, um Ihre Bewerbung zu besprechen und technische Datenblätter oder Muster anzufordern.
0.8 g/cm3 Weiße Keramikplatte aus Aluminiumoxid für kratzfreie Veredelung und hohe Schleifleistung beim Waferpolieren 0

Größe und Tag:

Aluminiumoxid-Katalysatorträger,

keramische Substrate der Tonerde,

Tonerde keramisch

Kontaktdaten
Shaanxi KeGu New Material Technology Co., Ltd

Ansprechpartner: Ms. Yuki

Telefon: 8615517781293

Senden Sie Ihre Anfrage direkt an uns (0 / 3000)

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