11 Gpa AIN Substrats céramiques au nitrure d'aluminium pour l'industrie électronique

11 Gpa Nitrure d'aluminium Céramique Substrats de nitrure d'aluminium Pour l'industrie électronique

Les substrats à base d'alumine (Al2O3), de nitrure d'aluminium (AlN), de nitrure de silicium (Si3N4) et d'autres matériaux céramiques sont largement utilisés dans l'industrie électronique en raison de leurs propriétés.

Principales applications:

• les matrices de circuits imprimés en céramique (PCB);
• des substrats pour la métallisation sur des technologies à film épais et à film mince;
• des substrats poli pour la métallisation à l'aide de la technologie des films minces;
• des substrats pour les LED, les diodes laser;
• des substrats de précision pour les circuits intégrés à micro-ondes et les micro-assemblages à haute densité de trous et à rainures pour les cristaux;
• des cartes multiples pour les ensembles de résistances, de réétablissements, de capteurs de niveau de carburant, de pression, etc.;
• porteurs de circuits de capteurs de substances toxiques, de rayonnements ionisants, de champs magnétiques, etc.;
• des plaquettes pour ionisateurs d' air et ozonisateurs;
• des plaquettes isolantes destinées à évacuer la chaleur des composants électroniques vers le radiateur de refroidissement;
• des protecteurs pour les éléments des transducteurs piézoélectriques;
• bases et supports d'éléments chauffants plats, cristaux de dispositifs semi-conducteurs à haute puissance;
• plaques pour les modules thermoélectriques (éléments de Peltier);
• Écrans pour générateurs de plasma à radiofréquence.

Caractéristiques d'application des produits à base d'alumine (Al2O3)

L'aluminium (Al2O3) présente une excellente combinaison de caractéristiques de matériau et le coût le plus bas.L'inertie chimique permet dans certains cas le remplacement de matériaux plus chers pour réduire les coûts de production..
La teneur en Al2O3 varie de 96% à 99,7%, l'épaisseur de 0,25 mm. La surface peut être grillé ou poli, la métallisation et n'importe quelle géométrie est possible.

Caractéristiques d'application des produits à base de nitrure d'aluminium (AlN)

En raison de ses excellentes propriétés isolantes, de sa haute conductivité thermique, de sa résistance et de son faible coefficient de dilatation thermique, le nitrure d'aluminium AlN est utilisé dans les appareils électroniques de haute puissance,une puissance de sortie supérieure à 50 WLa teneur en AlN varie de 96% à 99,7%, l'épaisseur de 0.25 à 11 mmOptions de traitement pour les structures à film mince et à film épais: finition de broyage et surface poli.

Caractéristiques d'application des produits à base de nitrure de silicium (Si3N4)

Le nitrure de silicium (Si3N4) possède des propriétés mécaniques exceptionnelles en cycle thermique continu, dans le vide profond, dans le régime de frottement accru et dans d'autres conditions de fonctionnement sévères.L'excellente résistance à l'usure et la très haute résistance à la flexion permettent de fabriquer des substrats 0.3 mm d'épaisseur, ce qui donne de faibles valeurs de résistance thermique (il peut être comparé à 1.0 mm d'épaisseur de nitrure d'aluminium) tout en améliorant considérablement les caractéristiques mécaniques stables sur une large plage de températures et d'autres conditions d'un environnement agressif.
Le nitrure de silicium présente une résistance élevée aux rayonnements, une résistance à la corrosion et une résistance électrique considérable par rapport aux autres matériaux céramiques.