11 Gpa AIN Nitruro de aluminio Substratos cerámicos para la industria electrónica

11 GPa Cerámicas de nitruro de aluminio Sustratos de nitruro de aluminio para la industria electrónica

Los sustratos basados en alúmina (Al2O3), nitruro de aluminio (AlN), nitruro de silicio (Si3N4) y otros materiales cerámicos, debido a sus propiedades, se utilizan ampliamente en la industria electrónica.

Aplicaciones principales:

• matrices de placas de circuito impreso cerámicas (PCB);
• sustratos para metalización en tecnologías de película gruesa y película delgada;
• sustratos pulidos para metalización en tecnología de película delgada;
• sustratos para LED, diodos láser;
• sustratos de precisión para circuitos integrados de microondas y microensamblajes con una alta densidad de agujeros y ranuras para cristales;
• placas múltiples para conjuntos de resistencias, reóstatos, sensores de nivel de combustible, presión, etc.;
• portadores de circuitos de sensores de sustancias venenosas, radiación ionizante, campo magnético, etc.;
• obleas para ionizadores de aire y ozonizadores;
• almohadillas aislantes para eliminar el calor de los componentes electrónicos al radiador de refrigeración;
• protectores para elementos de transductores piezoeléctricos;
• bases y soportes de elementos calefactores planos, cristales de dispositivos semiconductores de alta potencia;
• placas para módulos termoeléctricos (elementos Peltier);
• pantallas para generadores de plasma de radiofrecuencia.

Características de aplicación de productos de alúmina (Al2O3)

La alúmina (Al2O3) tiene una excelente combinación de características del material y el menor costo. La alta resistencia mecánica, dureza, resistencia al desgaste, resistencia al fuego, conductividad térmica e inercia química permiten, en algunos casos, la sustitución de materiales más caros para reducir el costo de producción.
El contenido de Al2O3 varía del 96% al 99,7%, con un grosor a partir de 0,25 mm. La superficie puede ser rectificada o pulida, y es posible la metalización y cualquier geometría.

Características de aplicación de productos de nitruro de aluminio (AlN)

Debido a sus excelentes propiedades aislantes, alta conductividad térmica, resistencia y bajo coeficiente de expansión térmica, el nitruro de aluminio AlN se utiliza en dispositivos electrónicos de alta potencia, transistores bipolares de puerta aislada (IGBT), sistemas de comunicación, indicadores LED, componentes pasivos, dispositivos de refrigeración, conexión directa de componentes en soldadura cargada de cobre. El contenido de AlN varía del 96% al 99,7%, con un grosor de 0,25 a 11 mm. Opciones de procesamiento para estructuras de película delgada y película gruesa: acabado de rectificado y superficie pulida. Es posible la metalización y cualquier geometría.

Características de aplicación de productos de nitruro de silicio (Si3N4)

El nitruro de silicio (Si3N4) tiene propiedades mecánicas excepcionales en ciclos térmicos continuos, en vacío profundo, en el régimen de fricción aumentada y en otras condiciones de funcionamiento severas. La excelente resistencia al desgaste y la muy alta resistencia a la flexión permiten fabricar sustratos de 0,3 mm de espesor, lo que proporciona bajos valores de resistencia térmica (se puede comparar con el nitruro de aluminio de 1,0 mm de espesor) al tiempo que mejora significativamente las características mecánicas que son estables en un amplio rango de temperatura y otras condiciones de un entorno agresivo.
El nitruro de silicio tiene alta resistencia a la radiación, resistencia a la corrosión y considerable resistencia eléctrica en comparación con otros materiales cerámicos.