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アルミナ Al2O3 / 窒化アルミニウム AlN / 窒化ケイ素 Si3N4をベースとしたセラミック基板

顧客の検討
NGKは、陝西科谷との長年のパートナーシップを高く評価しています。彼らのSSiCセラミックスは品質と革新性に優れており、私たちの相互の成功を牽引しています。今後も協力関係を継続しましょう!

—— NGKサーマルテクノロジー株式会社

ハイケでは,信頼,革新,共同卓越性に基づいた長年の協力関係,山西ケグ新材料技術株式会社と 誇りを持っています.SSiCセラミクスの専門知識と信頼性の高いソリューションは,一貫して私たちのプロジェクトを支援しています.

—— スズーホイケ・テクノロジー・カンパニー

私たちは,ケダで,山西ケグ新材料技術株式会社との長年のパートナーシップを非常に評価しています.彼らの高品質のSSiCセラミックソリューションは 私たちのプロジェクトに不可欠なものであり, 我々は継続的な協力と共通の成功を期待しています.

—— ケダ・インダストリアル・グループ株式会社

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アルミナ Al2O3 / 窒化アルミニウム AlN / 窒化ケイ素 Si3N4をベースとしたセラミック基板

アルミナ Al2O3 / 窒化アルミニウム AlN / 窒化ケイ素 Si3N4をベースとしたセラミック基板
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大画像 :  アルミナ Al2O3 / 窒化アルミニウム AlN / 窒化ケイ素 Si3N4をベースとしたセラミック基板

商品の詳細:
起源の場所: 中国
ブランド名: KEGU
モデル番号: カスタマイズ可能
お支払配送条件:
価格: 200-500 yuan/kg
パッケージの詳細: 強力な木製の箱 グローバル輸送のために
支払条件: 信用状、D/A、D/P、T/T、ウェスタンユニオン、マネーグラム
供給の能力: 2,000 PC/月

アルミナ Al2O3 / 窒化アルミニウム AlN / 窒化ケイ素 Si3N4をベースとしたセラミック基板

説明
材料: シック 組成:SiC: >85%
色: ブラック 密度: ≥3.65g/cm3
マックス サービス・テンパール: 1380℃ 折りたたみ力: 250MPa
硬さ: ≥84HRA 水吸収: ≤0.2%
アブラシオン: 0.02% 未満 折りたたみの強さ: ≥290MPa
ハイライト:

アルミナの陶磁器の基質

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窒化アルミニウム AlN 基板

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窒化ケイ素セラミック基板

アルミナ (al2o3),アルミニウムナイトリド (aln),シリコンナイトリド (si3n4) およびその他の陶器材料に基づく基板

 

 

アルミナ (Al2O3),アルミナイトリド (AlN),シリコンナイトリド (Si3N4) などを基にした基板は,その性質により電子産業で広く使用されています.

 

特徴 / 材料 アル2O3 96% Al2O3 99,6% アルナール Si3N4
表面密度,g/cm3 37~38 38から8まで9 3,3 3,5
ビッカーの硬さ GPA 16 21 11 15
折りたたみ強度 MPa 500 400 320 750
弾性電極,GPa 340 350 320 300
熱伝導性 (W/m·K) 24 28 180 55
TCLE 10-6/oК 68から8まで0 68から8まで5 47~56 2,7
電気強度,KV/mm 15 10 16 36
音量抵抗,オム*m >1012 >1012 >1012 >1012
変電容量 9,8 9,9 8,9 8,5

 

 

主な用途:

  • 陶器印刷回路板 (PCB) のマート;
  • 厚膜技術や薄膜技術による金属化用基板
  • 薄膜技術による金属化のための磨いた基板
  • LED,レーザーダイオードの基板
  • 高密度な穴と結晶の溝を持つマイクロ波集積回路およびマイクロ組成のための精密基板
  • 抵抗装置,リオスタット,燃料レベルセンサー,圧力などのための複数のボード
  • 毒性物質,電離放射線,磁場などのセンサー回路のキャリア
  • 空気イオン化器とオゾン化器のウエーファー
  • 電子部品から冷却ラジエータへの熱を吸収するための隔熱パッド
  • ピエゾ電気トランスデューサーの部品の保護具
  • 平らな暖房エレメントのベースとホルダー,高功率半導体装置の結晶
  • 熱電気モジュール (ペルティエ・エレメント) のプレート
  • ラジオ周波数プラズマジェネレーターのスクリーン

 

アルミナ (Al2O3) の製品の用途

アルミナ (Al2O3) は,材料の特性と最も低いコストの優れた組み合わせを持っています.高い機械的強度,硬さ,耐磨性,耐火性,熱伝導性,化学的慣性により,生産コストを削減するために高価な材料を交換することが可能になります..
Al2O3の含有量は96%から99.7%に及び,厚さは0.25mmからなる.表面は磨きまたは磨き,金属化および任意の幾何学が可能である.

 

アルミニウムナイトリド (AlN) の製品の応用特性

アルミナイトリドAlNは,優れた保温特性,高熱伝導性,強度,低熱膨張系数により,高性能電子機器に使用される.隔離ゲートバイポーラトランジスタ (IGBT)通信システム,LED インジケーター,受動部品,冷却装置,コンポーネントの直接接続25~11mm薄膜および厚膜構造のための加工オプション:磨き仕上げと磨き表面.金属化および任意の幾何学が可能です.

 

シリコンナイトリド (Si3N4) の製品の用途

シリコンナイトリド (Si3N4) は,連続熱循環,深真空,摩擦の増加,その他の厳しい作業条件において,例外的な機械特性を有する.優れた耐磨性と非常に高い屈曲強度により,基板を製造することができます..3 mm の厚さで,熱抵抗値が低い (1.0 mm 厚のアルミナイトリード) が,広い温度範囲や他の環境の条件において安定した機械性能を著しく改善する.


シリコンナイトリッドは他の陶器材料と比較して高い放射線耐性,耐腐蝕性,相当な電力強度を有する.

アルミナ Al2O3 / 窒化アルミニウム AlN / 窒化ケイ素 Si3N4をベースとしたセラミック基板 0

連絡先の詳細
Shaanxi KeGu New Material Technology Co., Ltd

コンタクトパーソン: Ms. Yuki

電話番号: 8615517781293

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