Tangan dan jari robot keramik presisi dengan stabilitas termal dan presisi dimensi untuk penanganan wafer semikonduktor

Kitalengan, cakar, dan jari robot keramik berkinerja tinggiKomponen-komponen penting ini berfungsi sebagai "tangan" robot - yang membutuhkan spesifikasi yang luar biasa.stabilitas termal, presisi dimensi, dan operasi bebas kontaminasiuntuk menjaga integritas proses di lingkungan manufaktur semikonduktor.

• Kontaminasi yang Sangat Rendah: Disertifikasikompatibel dengan cleanroombahan yang mencegah pembentukan partikel dan kontaminasi kimia
• Stabilitas Termal yang Luar Biasa: Mempertahankan integritas dimensi melalui fluktuasi suhu ekstrem
• Sifat Mekanis yang Lebih Baik: Rasio kekakuan berat tinggi untuk posisi yang tepat dan peredam getaran
• Inersitas Kimia: Tahan terhadap bahan kimia proses agresif termasuk asam, basa dan lingkungan plasma

Kami menggunakan berbagai proses pembentukan canggih untuk memenuhi kebutuhan aplikasi spesifik Anda:

• Mempersekan Panas: Untuk kepadatan maksimum dan sifat mekanik yang unggul
• Penekanan Isostatik Dingin (CIP): Memastikan kepadatan seragam dalam geometri kompleks
• Gel Casting: Ideal untuk bentuk besar dan kompleks dengan permukaan yang sangat baik
• Pengemasan Kering: Biaya efektif untuk produksi volume besar dari geometri sederhana

• Dimensi Maksimal: Diameter hingga 650 mm atau panjang 4 meter
• Tingkat Porositas: Dirancang untuksangat rendah hingga nol porositastergantung pada aplikasi
• Sintering Bentuk Jaringan: Teknologi sintering langsung meminimalkan pasca-pengolahan
• Kualitas Permukaan: Penutup kelas optik tersedia untuk aplikasi kritis

Kemampuan manufaktur keramik presisi kami melampaui efektor akhir robot untuk mencakup:

• Komponen pengolahan wafer: Plat distribusi gas, kepala shower, dan plat penutup
• Bagian dari Kamar Proses: Jendela RF, himpunan kubah, dan lapisan ruang
• Elemen Struktural: Substrat presisi, komponen isolasi, dan cincin spacer
• Perlengkapan Khusus: Nozzle, bracket, dan solusi pemasangan khusus

• Kinerja bebas partikelselama siklus operasi yang diperpanjang
• Pengeluaran gas minimaldalam kondisi vakum dan suhu tinggi
• Tidak mencemarikomposisi material yang kompatibel dengan proses sensitif

• Kepadatan dan paralelisme yang luar biasauntuk posisi wafer yang tepat
• Ketahanan terhadap keausan yang superioruntuk masa pakai yang diperpanjang di lingkungan abrasif
• Geometri yang dapat disesuaikandengan toleransi yang ketat untuk integrasi sistem langsung

Komponen keramik kami melayani fungsi penting di seluruh manufaktur semikonduktor:

• Robot transfer waferdan sistem penanganan bahan otomatis
• Kamar proses etching dan deposisi
• Peralatan litografidan sistem metrologi
• Aplikasi vakum dan vakum ultra tinggi
• komponen sistem CVD dan PVD

Dengan keahlian khusus dalam keramik teknis canggih untuk peralatan semikonduktor, kami menyediakan:

• Pemilihan bahan khusus aplikasibimbingan
• Dukungan teknik khususuntuk tantangan desain yang unik
• Prototyping Cepatkemampuan untuk siklus pengembangan
• Produksi dalam jumlah besardengan jaminan kualitas yang konsisten
• Dokumen teknisdan data validasi kinerja

Hubungi tim insinyur kamiuntuk mendiskusikan kebutuhan penanganan wafer spesifik Anda dan menemukan bagaimana tangan, cakar, dan jari keramik presisi kami dapat meningkatkan keandalan dan hasil proses manufaktur semikonduktor Anda.