Brazos y dedos robóticos de cerámica de precisión con estabilidad térmica y precisión dimensional para la manipulación de obleas de semiconductores

El nuestrobrazos, garras y dedos robóticos de cerámica de alto rendimientoEstos componentes críticos funcionan como la "mano" del robot, lo que requiere un uso excepcional de la tecnología.Estabilidad térmica, precisión dimensional y funcionamiento libre de contaminaciónmantener la integridad del proceso en entornos de fabricación de semiconductores.

• Contaminación muy baja: Certificadocompatibles con las salas limpiasmateriales que impiden la generación de partículas y la contaminación química
• Estabilidad térmica excepcional: Mantener la integridad dimensional a través de las fluctuaciones de temperatura extremas
• Propiedades mecánicas superiores: Alta relación rigidez/peso para un posicionamiento preciso y amortiguación de las vibraciones
• Inertitud química: Resistente a sustancias químicas agresivas de proceso, incluidos los ácidos, bases y entornos plasmáticos

Empleamos diversos procesos de formación avanzados para satisfacer sus requisitos específicos de aplicación:

• Presión en caliente: Para densidad máxima y propiedades mecánicas superiores
• Presión isostática en frío (CIP): Garantizar una densidad uniforme en geometrías complejas
• Fusión de gel: Ideal para formas grandes y complejas con un excelente acabado de la superficie
• Presión en seco: rentable para la producción en grandes volúmenes de geometrías más simples

• Dimensiones máximas: hasta 650 mm de diámetro o 4 m de longitud
• Niveles de porosidad: Diseñado paraporosidad muy baja a cerodependiendo de la aplicación
• Sinterización en forma de red: La tecnología de sinterización directa minimiza el posprocesamiento
• Calidad de la superficie: acabados ópticos disponibles para aplicaciones críticas

Nuestras capacidades de fabricación de cerámica de precisión se extienden más allá de los efectores finales robóticos para incluir:

• Componentes para el procesamiento de obleas: Placas de distribución de gas, cabezales de ducha y placas de cobertura
• Partes de cámaras de proceso: Ventanas de RF, conjuntos de cúpulas y revestimientos de cámaras
• Elementos estructurales: Substratos de precisión, componentes aislantes y anillos de separación
• Instalaciones especializadas: Boquillas, soportes y soluciones de montaje personalizadas

• Rendimiento libre de partículasdurante los ciclos operativos prolongados
• Desgasificación mínimaen condiciones de vacío y de alta temperatura
• No contaminantescomposición del material compatible con procesos sensibles

• Aplanamiento y paralelismo excepcionalespara el posicionamiento preciso de las obleas
• Resistencia al desgaste superiorpara una vida útil prolongada en entornos abrasivos
• Geometría personalizablecon tolerancias ajustadas para la integración directa del sistema

Nuestros componentes cerámicos sirven funciones críticas en la fabricación de semiconductores:

• Robots de transferencia de obleasy sistemas automatizados de manipulación de materiales
• Cámaras de proceso de grabado y deposición
• Equipo de litografíay sistemas de metrología
• Aplicaciones al vacío y al vacío ultraalto
• Componentes de los sistemas CVD y PVD

Con experiencia especializada en cerámica técnica avanzada para equipos de semiconductores, ofrecemos:

• Selección de materiales específicos para la aplicaciónorientación
• Apoyo de ingeniería personalizadopara desafíos de diseño únicos
• Prototipos rápidoscapacidades para los ciclos de desarrollo
• Fabricación en volumencon una garantía de calidad constante
• Documentación técnicay datos de validación del rendimiento

Póngase en contacto con nuestro equipo de ingenieríapara discutir sus requisitos específicos de manejo de obleas y descubrir cómo nuestros brazos, garras y dedos de cerámica de precisión pueden mejorar la confiabilidad y el rendimiento de su proceso de fabricación de semiconductores.