정밀 세라믹 로봇 팔과 손가락, 반도체 웨이퍼 취급을 위한 열 안정성 및 차원 정밀성

우리의고성능 세라믹 로봇 팔, 발톱, 손가락특히 민감한 반도체 웨이퍼 처리 애플리케이션을 위해 설계되었습니다.열 안정성, 차원 정확성, 오염 없는 작동반도체 제조 환경에서의 공정 무결성을 유지하기 위해서입니다.

• 극히 낮은 오염: 인증청정실 호환입자 생성 및 화학 오염을 방지하는 물질
• 탁월 한 열 안정성: 극심한 온도 변동에도 불구하고 차원의 무결성을 유지
• 우수한 기계적 특성: 정확한 위치 및 진동 완화를 위해 높은 딱딱성/중량 비율
• 화학적 무력성: 산, 염기 및 플라즈마 환경을 포함한 공격적인 공정 화학 물질에 내성이

우리는 다양한 첨단 형성 프로세스를 사용 하 여 귀하의 특정 응용 프로그램 요구 사항에 맞게:

• 고온 압축: 최대 밀도와 우수한 기계적 특성을 위해
• 냉동 동역 압축 (CIP): 복잡한 기하학에서 균일한 밀도를 보장
• 젤 발사: 탁월한 표면 완성도와 함께 크고 복잡한 모양을 위한 이상적
• 건조 압축: 단순 기하학의 대용량 생산에 비용 효율적

• 최대 크기: 지름 650mm 또는 길이 4m까지
• 포러시티 수준:매우 낮은 포러스성에서 0 포러스성사용법에 따라
• 네트워크 모양 시너링: 직접 합금 기술은 후처리를 최소화합니다.
• 표면 품질: 비중있는 응용 프로그램에 사용할 수있는 광학 수준의 마무리

우리의 정밀 세라믹 제조 능력은 로봇의 최종 효과를 넘어서 다음을 포함합니다.

• 웨이퍼 처리 부품: 가스 배급판, 샤워 헤드 및 덮개판
• 프로세스 챔버 부품: RF 창문, 돔 집합체 및 챔버 라인
• 구조적 요소: 정밀 기판, 단열 부품 및 간격 반지
• 특수 장착장치: 노즐, 브래킷 및 맞춤식 장착 솔루션

• 입자 없는 성능연장된 운용 주기에
• 최소 배출가스진공 및 고온 조건에서
• 오염이 없거나민감한 공정과 호환되는 재료 구성

• 비범한 평면성 및 평행성정밀한 웨이퍼 위치
• 뛰어난 마모 저항성가려운 환경에서의 서비스 수명을 연장하기 위해
• 사용자 정의 가능한 기하학직결 시스템 통합을 위한 좁은 허용량으로

우리의 세라믹 부품은 반도체 제조에 중요한 기능을 합니다.

• 웨이퍼 전송 로봇그리고 자동화된 재료 처리 시스템
• 에치 및 퇴적 공정 챔버
• 리토그래피 장비및 측정 시스템
• 진공 및 초고 진공 용도
• CVD 및 PVD 시스템 구성 요소

반도체 장비를 위한 첨단 기술 세라믹에 대한 전문적인 전문 지식을 바탕으로

• 애플리케이션별 소재 선택지도
• 맞춤형 엔지니어링 지원독특한 디자인 도전을 위해
• 빠른 프로토타입 제작개발 주기에 대한 능력
• 대량 생산일관성 있는 품질 보장
• 기술 문서성능 검증 데이터

엔지니어 팀과 연락하세요당신의 특정 웨이퍼 처리 요구 사항을 논의하고 우리의 정밀 세라믹 팔, 발톱, 그리고 손가락이 반도체 제조 공정 신뢰성과 생산량을 향상시킬 수 있는 방법을 발견합니다.