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Aperçu Produitscéramique au carbure de silicium

Plateau de carbure de silicium et support de gaufre SiC avec température de service maximale de 1650 °C, haute conductivité thermique et résistance au plasma et à la corrosion pour la gravure ICP

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Certificat
Chine Shaanxi KeGu New Material Technology Co., Ltd certifications
Chine Shaanxi KeGu New Material Technology Co., Ltd certifications
Examens de client
NGK apprécie son partenariat de longue date avec Shaanxi Kegu. Leurs céramiques SSiC excellent en qualité et en innovation, ce qui favorise notre succès mutuel. Continuons à collaborer !

—— NGK Thermal Technology Co.,Ltd

Chez Huike, nous sommes fiers de notre partenariat de longue date avec Shaanxi Kegu New Material Technology Co., Ltd., une collaboration basée sur la confiance, l'innovation et l'excellence partagée.Leur expertise en céramique SSiC et leurs solutions fiables ont toujours soutenu nos projets.

—— La société Suzhou Huike Technology Co., Ltd. est une société de technologie

Chez Keda, nous apprécions grandement notre partenariat de longue date avec la société Shaanxi Kegu New Material Technology Co., Ltd.Leurs solutions de céramique SSiC de haute qualité ont été intégrées à nos projets et nous attendons avec impatience une collaboration continue et un succès partagé..

—— Le groupe Keda Industrial Group Co., Ltd.

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Plateau de carbure de silicium et support de gaufre SiC avec température de service maximale de 1650 °C, haute conductivité thermique et résistance au plasma et à la corrosion pour la gravure ICP

Silicon Carbide Tray & SiC Wafer Holder with 1650°C Max Service Temp, High Thermal Conductivity, and Plasma & Corrosion Resistance for ICP Etching
Silicon Carbide Tray & SiC Wafer Holder with 1650°C Max Service Temp, High Thermal Conductivity, and Plasma & Corrosion Resistance for ICP Etching Silicon Carbide Tray & SiC Wafer Holder with 1650°C Max Service Temp, High Thermal Conductivity, and Plasma & Corrosion Resistance for ICP Etching Silicon Carbide Tray & SiC Wafer Holder with 1650°C Max Service Temp, High Thermal Conductivity, and Plasma & Corrosion Resistance for ICP Etching

Image Grand :  Plateau de carbure de silicium et support de gaufre SiC avec température de service maximale de 1650 °C, haute conductivité thermique et résistance au plasma et à la corrosion pour la gravure ICP

Détails sur le produit:
Lieu d'origine: Chine
Nom de marque: KeGu
Numéro de modèle: Personnalisable
Conditions de paiement et expédition:
Prix: 200-500 yuan/kg
Détails d'emballage: Boîte en bois solide pour le transport maritime mondial
Conditions de paiement: L/C, D/A, D/P, T/T, Western Union, MoneyGram
Capacité d'approvisionnement: 2 000 PCs/mois
Contact

Plateau de carbure de silicium et support de gaufre SiC avec température de service maximale de 1650 °C, haute conductivité thermique et résistance au plasma et à la corrosion pour la gravure ICP

description de
Matériel: Sic Composition:SiC: > 98%
couleur: Noir Densité: > 3,05g / cm3
Max. Température de service: 1650 ° C Résistance à la flexion: 380MPA
Usage: Utilisation de l'industrie Composition chimique: Al2O3, SiO2
Contenu: 85% température maximale: 1600 ℃
Caractéristiques: Haute résistance à l'usure Coefficient de dilatation thermique: 4,0-4,5 × 10^-6 /K
Composition du matériau: 4%Si >96%Sic Température de fonctionnement: 1650
Avantage: Résistance à l'usure et à l'abrasion Pureté: 98%
Matériel: céramique au carbure de silicium Preuve acide alcaline: Excellent
Solubilité: Insoluble Porosité ouverte: <0,1%
Résistance à la flexion: 350 à 550 MPa
Mettre en évidence:

Porte-plaquette SiC pour gravure ICP

,

Plaque en carbure de silicium pour porte-plaquette

,

Plaque SiC pour l'industrie des LED

Plateaux et plateaux en carbure de silicium (SiC): supports de gaufres haute performance pour l'incision ICP dans la fabrication de LED
Les plateaux et les plateaux en carbure de silicium (SiC) sont des supports de plaquettes de précision conçus spécifiquement pour les processus de gravure au plasma couplé par induction (ICP) dans l'industrie des LED.Le SiC se distingue comme un matériau supérieur en raison de sa gestion thermique exceptionnelle, résistance à la corrosion exceptionnelle et stabilité mécanique remarquable à des températures extrêmes.
Principaux avantages matériels
  • Conductivité thermique supérieure:Pour une dissipation de chaleur efficace et une répartition uniforme de la température sur la gaufre
  • Résistance exceptionnelle au plasma et à la corrosion:Résiste aux environnements chimiques difficiles et aux chocs plasmatiques pour une durée de vie prolongée
  • Résistance mécanique élevée à des températures élevées:Maintient l'intégrité structurelle et la stabilité dimensionnelle sous des charges thermiques élevées
  • Faible expansion thermique:Réduit au minimum le risque de déformation ou de contrainte sur les plaquettes pendant le cycle thermique
Propriétés du carbure de silicium (SiC)
Les biens immobiliers Valeur
Formule composée SiC
Poids moléculaire 40.1
Apparence Noir
Point de fusion 2,730 °C (décompose)
Densité 30,0 à 3,2 g/cm3
Résistance électrique 1 - 4 x 101 Ω*m
Le rapport de Poisson 0.15 contre 0.21
Température spécifique 670 à 1180 J/kg*K
Spécifications comparatives: types de plateaux en SiC
Le type SiC recristallisé SiC sintré SiC lié par réaction
La pureté > 99,5% > 98% > 88%
Max, un employé temporaire. 1650 °C 1550 °C 1300 °C
Densité en vrac (g/cm3) 2.7 3.1 > 3.0
Porosité apparente < 15% < 2,5% < 0,1%
Résistance à la flexion (MPa) 110 400 380
Résistance à la compression (MPa) > 300 2200 2100
Expansion thermique (10−6/°C) 4.6 (à 1200°C) 4.0 (à < 500°C) 4.4 (à < 500°C)
Conductivité thermique (W/m*K) 35 - 36 110 65
Caractéristiques principales Résistance à haute température, haute pureté Haute résistance à la fracture Excellente résistance aux produits chimiques
Caractéristiques essentielles pour la gravure ICP
  • Excellente conductivité thermique:Assure un transfert de chaleur rapide et minimise les gradients thermiques
  • Résistance supérieure au choc plasma:Garantit la durabilité à long terme et la cohérence du processus
  • Excellente homogénéité de température:Critical pour atteindre des taux d'écorchage uniformes et des performances élevées de l'appareil sur l'ensemble de la plaque
Applications principales
  • Pour le traitement des semi-conducteurs:Idéal comme support de plaquette, comme récepteur et comme fixation de processus dans les cas de maladie cardiovasculaire, de maladie cardiaque et d'épitaxie
  • Fabrication de LED:Largement utilisé comme support de plaquette robuste et fiable pour les procédés de gravure ICP dans la production de diodes électroluminescentes
  • Couches et composants avancés:Convient à diverses applications industrielles nécessitant une grande stabilité thermique et chimique
Nous fournissons une gamme complète de plateaux, de plaques et d'autres composants SiC spécialisés en carbure de silicium de taille standard et personnalisée pour répondre aux besoins précis des industries des semi-conducteurs et des LED.

Produit Tag:

Céramique au carbure de silicium,

SIC fritté sans pression,

Sic céramique

Coordonnées
Shaanxi KeGu New Material Technology Co., Ltd

Personne à contacter: Ms. Yuki

Téléphone: 8615517781293

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À propos

céramique au carbure de silicium

fourches SiC résistantes aux températures élevées avec température maximale de service de 1650 °C et résistance à la flexion de 3800 MPa pour la fabrication de semi-conducteurs

Ruloir SiC sintré sans pression 1650°C résistant à la chaleur pour les fours à rouleaux

Carbure de silicium lié par réaction

Tubes de refroidissement à air de carbure de silicium sintré par réaction pour le refroidissement industriel à haute température, à température maximale de service de 1380 °C et résistance à la flexion de 250 MPa

Brûleur à SiC stable à haute température, résistant aux chocs thermiques et à la corrosion pour fours industriels

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