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8616602956098

3mm-4mm 圧力をかけないシリコンカービッド磨きボール

基本プロパティ
原産地: 中国
ブランド名: KEGU
モデル番号: カスタマイズ可能
取引物件
最低注文数量: 交渉可能
価格: 交渉可能
支払い条件: L/C、D/A、D/P、T/T、ウェスタンユニオン、マネーグラム
製品概要
3 ~ 4 mm の無加圧焼結炭化ケイ素 (SSiC) 研削ボール 鉱業、セラミックス、化学産業における高強度、高純度の研削用途向けに特別に設計されており、優れた耐久性と研削効率を提供します。 製品概要 これらの粉砕ボールは、ロールプレス技術を使用して高純度のサブミクロンの炭化ケイ素粉末から製造され、続いて真空炉内で 2100 ~ 2200 °C で無加圧焼結されます。得られた SSiC 研削ボールは、ビッカース硬度 (HV10) ≥ 2300、曲げ強度 ≥ 350 MPa、破壊靱性 ≥ 4.0 MPa・m¹/²、および 0.01 ~ 0.02 g/kg・h という低い摩耗量を備えています。緻...

製品詳細

ハイライト:

3mm シリコン・カービッド・シントレート・グライディングボール

,

4mm シリコン・カービッド・シントレート・プレッシャーレス グライディングボール

製品の説明
3 ~ 4 mm の無加圧焼結炭化ケイ素 (SSiC) 研削ボール

鉱業、セラミックス、化学産業における高強度、高純度の研削用途向けに特別に設計されており、優れた耐久性と研削効率を提供します。

製品概要

これらの粉砕ボールは、ロールプレス技術を使用して高純度のサブミクロンの炭化ケイ素粉末から製造され、続いて真空炉内で 2100 ~ 2200 °C で無加圧焼結されます。得られた SSiC 研削ボールは、ビッカース硬度 (HV10) ≥ 2300、曲げ強度 ≥ 350 MPa、破壊靱性 ≥ 4.0 MPa・m¹/²、および 0.01 ~ 0.02 g/kg・h という低い摩耗量を備えています。緻密で非多孔質の微細構造により、酸、アルカリ、高温に対する優れた耐性があり、空気中で最大 1600 °C の長期使用温度に耐えます。

主な特長
  • 超高耐摩耗性・磨耗量は従来のアルミナボールに比べて1/5~1/10であり、交換時期を大幅に延長し、ランニングコストを削減します。

  • 汚染のない研削– 高純度の SSiC 材料により、化学的に不活性な摩耗粉の生成が最小限に抑えられ、粉砕製品の純度が確保されます。

  • 優れた耐衝撃性– 破壊靱性 ≥ 4.0 MPa・m¹/² のこれらのボールは、高速撹拌ミルや遊星ミルなどの高エネルギー粉砕装置に最適です。

  • 高い圧壊強度– 高い単一ボール破砕強度により、研削中の破損が最小限に抑えられ、メディアが破損するリスクが軽減されます。

  • 高温耐性と耐食性– 1600℃までの長期使用に適しており、強酸、アルカリ、有機溶剤にも耐性があります。

  • 緻密な微細構造– 理論に近い密度 (≥ 3.10 g/cm3) が無加圧焼結によって達成され、その結果、非常に低い気孔率が得られます。

物理的特性
財産 代表値
密度 ≥ 3.10 g/cm3
ビッカース硬度(HV10) ≥ 2300
曲げ強度 ≧350MPa
破壊靱性 ≧4.0MPa・m¹/²
弾性率 ≧ 400 GPa
熱伝導率 ≥ 80 W/(m・K)
熱膨張係数(20~1000℃) 4.0~4.5*10⁻⁶/K
単球圧壊強度(φ10mm) ≧15kN
摩耗量(ASTM法) 0.01~0.02g/kg・h
最高使用温度(空気中) 1600℃

注記:破砕強度は直径に依存します。ボールが大きいほど、より高い破砕力値を示します。他の直径の標準値はご要望に応じて入手可能です。

製造工程
  1. 粉末の調製– 粒度分布が狭い高純度のサブミクロンα-SiC粉末を選択。

  2. 形にする– ロールプレスにより、高い真球度と優れた寸法安定性が保証されます。

  3. 乾燥– 制御された乾燥プロファイルにより、グリーンボディの亀裂が防止されます。

  4. 焼結– 完全な緻密化を達成するために、高真空炉内で 2100 ~ 2200 °C の無加圧焼結が実行されます。

  5. 仕上げ・必要に応じて表面研磨や分級を行います。

  6. 品質検査– 一貫した性能を保証するために、各バッチの硬度、密度、摩耗損失、および圧壊強度がテストされます。

アプリケーション
  • 鉱業と冶金– 金、銅、鉄鉱石の精密粉砕。重度の培地分離。石炭の粉砕。

  • アドバンストセラミックス– アルミナ、ジルコニア、窒化ケイ素、炭化ケイ素などのセラミック粉末の高純度粉砕。釉薬と顔料の分散。

  • 化学薬品およびコーティング– 二酸化チタン、炭酸カルシウム、シリカ粉末、顔料、染料、農薬懸濁液の超微粉砕と分散。

  • 電池材料– リン酸鉄リチウム (LFP)、NCM カソード材料、グラファイト アノードの凝集解除とナノスケール粉砕。

  • その他の高純度用途– 電子材料、化粧品、食品添加物、医薬品添加剤など。

さらに詳しい情報や特定の要件については、直接お問い合わせください。

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