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Anelli ceramici in allumina ad alta purezza A998 (99,8%) per strumenti a semiconduttore da 200 mm e 300 mm con eccezionale resistenza al plasma

Ceramica di ossido di alluminio
December 18, 2025
Categoria di collegamento: Ceramica di ossido di alluminio
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Tag:
#Portatore del catalizzatore di alluminio #substrati ceramici dell'allumina #Allumina ceramica
Brief: Seguiteci per una dimostrazione pratica che mette in evidenza i punti di prestazione degli anelli ceramici di alta purezza in alluminio A998 per utensili semiconduttori.Questo video mostra come questi componenti di precisione resistono a ambienti plasmatici aggressivi in camere di 200mm e 300mm di incisione e CVD, dimostrando la loro eccezionale resistenza al plasma e affidabilità nelle applicazioni reali di produzione di semiconduttori.
Related Product Features:
  • L'eccezionale resistenza al plasma prolunga la vita utile resistendo a ambienti plasmatici aggressivi nelle camere di incisione e di deposizione.
  • L'elevata resistenza dielettrica fornisce un isolamento elettrico superiore per prevenire perdite di corrente e arco.
  • L'elevata resistenza alla corrosione mantiene l'integrità geometrica contro gli alogenuri e altri gas di processo.
  • 99La purezza dell'alumina pari allo 0,8% riduce al minimo la contaminazione metallica per la produzione di wafer ad alta purezza.
  • L'eccellente resistenza meccanica garantisce l'integrità strutturale sotto stress termico e meccanico.
  • Progettato con precisione per strumenti di fabbricazione di semiconduttori da 200 e 300 mm con tolleranze strette.
  • Compatibile con le principali piattaforme OEM, inclusi sistemi di incisione, sistemi CVD/PVD e camere di pulizia al plasma.
  • Le finiture superficiali superiori garantiscono prestazioni ottimali del plasma e stabilità del processo in set di strumenti specifici.
Domande frequenti:
  • Con quali dimensioni degli utensili per semiconduttori sono compatibili questi anelli in ceramica di allumina?
    I nostri anelli in ceramica A998 in allumina ad elevata purezza sono progettati con precisione per strumenti di fabbricazione di semiconduttori da 200 mm e 300 mm, garantendo compatibilità con le principali piattaforme OEM e stabilità del processo su wafer di diverse dimensioni.
  • In che modo il livello di purezza del 99,8% apporta vantaggi ai processi di produzione dei semiconduttori?
    La purezza dell'allumina del 99,8% (grado A998) riduce al minimo la contaminazione metallica, che è fondamentale per mantenere standard di produzione di wafer di elevata purezza e ottenere tassi di rendimento ottimali nei processi sensibili dei semiconduttori.
  • In quali applicazioni specifiche dei semiconduttori vengono tipicamente utilizzati questi anelli ceramici?
    Questi componenti sono materiali di consumo vitali nei sistemi di incisione come anelli di focalizzazione e rivestimenti della camera, nei sistemi CVD/PVD come anelli e inserti del bordo del collare e nelle camere di pulizia del plasma come rivestimenti durevoli che resistono all'erosione da plasmi O₂ o NF₃.
  • Cosa rende questi anelli di ceramica resistenti agli ambienti plasmatici?
    L'eccezionale resistenza al plasma deriva dalle proprietà del materiale allumina di alta purezza, che resiste a ambienti plasmatici aggressivi nelle camere di incisione e di deposizione,ridurre la generazione di particelle e prolungare la vita utile dei componenti.
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