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고순도 알루미나 A998 (99.8%) 비범한 플라즈마 저항을 가진 200mm 및 300mm 반도체 도구용 세라믹 링

알루미늄 산화 세락믹
December 18, 2025
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태그:
#알루미나 촉매 운반기 #알루미나 세라믹 기판 #알루미나 세라믹
Brief: 반도체 도구를 위한 고순도 알루미나 A998 세라믹 링의 성능을 보여주는 실제 시연을 함께 보세요.이 비디오는 이러한 정밀 부품이 200mm와 300mm 에치와 CVD 챔버에서 공격적인 플라즈마 환경에 어떻게 견딜 수 있는지 보여줍니다., 실제 반도체 제조 응용 프로그램에서 그들의 예외적인 플라스마 저항과 신뢰성을 보여줍니다.
Related Product Features:
  • 탁월한 플라즈마 저항성은 에칭 및 증착 챔버의 공격적인 플라즈마 환경을 견뎌내어 수명을 연장합니다.
  • 높은 유전 강도는 전류 누설 및 아킹을 방지하기 위해 우수한 전기 절연을 제공합니다.
  • 높은 부식 저항은 하로겐 기반 및 다른 공정 기체에 대한 기하학적 무결성을 유지합니다.
  • 99.8% 알루미나 순도는 고순도 웨이퍼 제조 시 금속 오염을 최소화합니다.
  • 우수한 기계적 강도는 열 및 기계적 스트레스 아래 구조적 무결성을 보장합니다.
  • 정밀하게 설계된 200mm 및 300mm 반도체 제조 도구로, 엄격한 공차를 충족합니다.
  • 식각 시스템, CVD/PVD 시스템, 플라즈마 세정 챔버를 포함한 주요 OEM 플랫폼과 호환됩니다.
  • 우수한 표면 마감은 특정 도구 세트에서 최적의 플라즈마 성능과 공정 안정성을 보장합니다.
자주 묻는 질문:
  • 이 알루미나 세라믹 링은 어떤 반도체 도구 크기와 호환됩니까?
    당사의 고순도 알루미나 A998 세라믹 링은 200mm 및 300mm 반도체 제조 도구용으로 정밀하게 설계되어 주요 OEM 플랫폼과의 호환성과 다양한 웨이퍼 크기에 걸친 공정 안정성을 보장합니다.
  • 99.8% 순도 수준은 반도체 제조 공정에 어떤 이점을 제공합니까?
    99.8% 알루미나 순도(A998 등급)는 금속 오염을 최소화합니다. 이는 고순도 웨이퍼 제조 표준을 유지하고 민감한 반도체 공정에서 최적의 수율을 달성하는 데 중요합니다.
  • 이러한 세라믹 링은 일반적으로 어떤 특정 반도체 응용 분야에 사용됩니까?
    이러한 구성 요소는 초점 링 및 챔버 라이너와 같은 식각 시스템, 칼라 에지 링 및 인서트와 같은 CVD/PVD 시스템, O2 또는 NF₃ 플라즈마의 침식에 저항하는 내구성 라이너인 플라즈마 세척 챔버의 필수 소모품입니다.
  • 왜 이 세라믹 고리가 플라즈마 환경에 내성이 있을까요?
    뛰어난 플라즈마 저항성은 고순도 알루미나 재료의 특성에서 비롯되며, 이는 에칭 및 증착 챔버의 공격적인 플라즈마 환경을 견뎌내어 입자 발생을 줄이고 부품의 수명을 연장합니다.
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