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Anillos cerámicos de aluminio de alta pureza A998 (99,8%) para herramientas semiconductoras de 200 mm y 300 mm con resistencia excepcional al plasma

Cerámica de óxido de aluminio
December 18, 2025
Conexión De Categoría: Cerámica de óxido de aluminio
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Las etiquetas:
#Portador del catalizador de aluminio #substratos de cerámica del alúmina #Alúmina de cerámica
Brief: Acompáñenos en una demostración práctica que destaca los puntos de rendimiento de los anillos cerámicos de alúmina de alta pureza A998 para herramientas de semiconductores. Este video muestra cómo estos componentes de precisión resisten entornos de plasma agresivos en cámaras de grabado y CVD de 200 mm y 300 mm, demostrando su excepcional resistencia al plasma y confiabilidad en aplicaciones reales de fabricación de semiconductores.
Related Product Features:
  • La excepcional resistencia al plasma extiende la vida útil al soportar entornos de plasma agresivos en cámaras de grabado y deposición.
  • La alta resistencia dieléctrica proporciona un aislamiento eléctrico superior para evitar la fuga de corriente y el arco.
  • La alta resistencia a la corrosión mantiene la integridad geométrica contra los halógenos y otros gases de proceso.
  • 99La pureza de alumina del 0,8% minimiza la contaminación metálica para la fabricación de obleas de alta pureza.
  • La excelente resistencia mecánica garantiza la integridad estructural bajo tensión térmica y mecánica.
  • Diseñado con precisión para herramientas de fabricación de semiconductores de 200 mm y 300 mm con tolerancias ajustadas.
  • Compatible con las principales plataformas OEM, incluidos sistemas de grabado, sistemas CVD/PVD y cámaras de limpieza de plasma.
  • Los acabados superficiales superiores garantizan un rendimiento óptimo del plasma y la estabilidad del proceso en conjuntos de herramientas específicos.
Las preguntas:
  • ¿Con qué tamaños de herramientas semiconductoras son compatibles estos anillos cerámicos de alúmina?
    Nuestros anillos cerámicos de alúmina A998 de alta pureza están diseñados con precisión para herramientas de fabricación de semiconductores de 200 mm y 300 mm, lo que garantiza la compatibilidad con las principales plataformas OEM y la estabilidad del proceso en diferentes tamaños de obleas.
  • ¿Cómo beneficia el nivel de pureza del 99,8% a los procesos de fabricación de semiconductores?
    La pureza de la alúmina del 99,8 % (grado A998) minimiza la contaminación metálica, lo cual es fundamental para mantener los estándares de fabricación de obleas de alta pureza y lograr tasas de rendimiento óptimas en procesos de semiconductores sensibles.
  • ¿En qué aplicaciones específicas de semiconductores se suelen utilizar estos anillos cerámicos?
    Estos componentes son consumibles vitales en sistemas de grabado como anillos de enfoque y revestimientos de cámara, en sistemas CVD/PVD como anillos e insertos de borde de collar, y en cámaras de limpieza de plasma como revestimientos duraderos que resisten la erosión de los plasmas de O₂ o NF₃.
  • ¿Qué hace que estos anillos cerámicos sean resistentes a los entornos de plasma?
    La excepcional resistencia al plasma proviene de las propiedades del material de alúmina de alta pureza, que resiste entornos de plasma agresivos en cámaras de grabado y deposición, reduciendo la generación de partículas y extendiendo la vida útil de los componentes.
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