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Anéis de cerâmica de alumina de alta pureza A998 (99,8%) para ferramentas de semicondutores de 200 mm e 300 mm com excepcional resistência ao plasma

Cerâmica de óxido de alumínio
December 18, 2025
Categoria Conexão: Cerâmica de óxido de alumínio
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Tags:
#Portador do catalisador de alumínio #carcaças cerâmicas da alumina #Alumina cerâmica
Brief: Acompanhe uma demonstração prática que destaca os pontos de desempenho de Anéis Cerâmicos de Alumina A998 de Alta Pureza para ferramentas de semicondutores.Este vídeo mostra como estes componentes de precisão suportam ambientes de plasma agressivos em 200mm e 300mm etch e câmaras CVD, demonstrando a sua excepcional resistência ao plasma e fiabilidade em aplicações reais de fabricação de semicondutores.
Related Product Features:
  • A resistência excepcional ao plasma prolonga a vida útil, resistindo a ambientes agressivos de plasma em câmaras de ataque e deposição.
  • A alta resistência dielétrica fornece isolamento elétrico superior para evitar fugas e arcos de corrente.
  • A alta resistência à corrosão mantém a integridade geométrica contra gases à base de halogênio e outros gases de processo.
  • A pureza de alumina de 99,8% minimiza a contaminação metálica para a fabricação de wafers de alta pureza.
  • Excelente resistência mecânica garante a integridade estrutural sob estresse térmico e mecânico.
  • Projetado com precisão para ferramentas de fabricação de semicondutores de 200 mm e 300 mm com tolerâncias apertadas.
  • Compatível com as principais plataformas OEM, incluindo sistemas de gravação, sistemas CVD/PVD e câmaras de limpeza de plasma.
  • Acabamentos superficiais superiores garantem desempenho ideal do plasma e estabilidade do processo em conjuntos de ferramentas específicos.
Perguntas Frequentes:
  • Com quais tamanhos de ferramentas semicondutoras esses anéis cerâmicos de alumina são compatíveis?
    Nossos anéis cerâmicos de alumina A998 de alta pureza são projetados com precisão para ferramentas de fabricação de semicondutores de 200 mm e 300 mm, garantindo compatibilidade com as principais plataformas OEM e estabilidade de processo em diferentes tamanhos de wafer.
  • Como o nível de pureza de 99,8% beneficia os processos de fabricação de semicondutores?
    A pureza de 99,8% da alumina (grau A998) minimiza a contaminação metálica, o que é fundamental para manter os padrões de fabricação de wafers de alta pureza e alcançar taxas de rendimento ideais em processos de semicondutores sensíveis.
  • Em quais aplicações específicas de semicondutores esses anéis cerâmicos são normalmente usados?
    Esses componentes são consumíveis vitais em sistemas de gravação como anéis de foco e revestimentos de câmara, em sistemas CVD/PVD como anéis e inserções de borda de colar, e em câmaras de limpeza de plasma como revestimentos duráveis ​​que resistem à erosão de plasmas de O₂ ou NF₃.
  • O que torna estes anéis de cerâmica resistentes a ambientes de plasma?
    A excepcional resistência ao plasma provém das propriedades do material de alumina de alta pureza, que resiste a ambientes agressivos de plasma em câmaras de ataque e deposição, reduzindo a geração de partículas e prolongando a vida útil dos componentes.
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