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Hochreine Aluminiumoxid-A998 (99,8 %) Keramikringe für 200-mm- und 300-mm-Halbleiterwerkzeuge mit außergewöhnlicher Plasmabeständigkeit

Aluminium-Oxidkeramik
December 18, 2025
Kategorie Verbindung: Aluminium-Oxidkeramik
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Tags:
#Aluminiumoxid-Katalysatorträger #keramische Substrate der Tonerde #Tonerde keramisch
Brief: Folgen Sie einer praktischen Demonstration, die die Leistungsmerkmale von hochreinen Alumina A998 Keramikringen für Halbleiterwerkzeuge hervorhebt.Dieses Video zeigt, wie diese Präzisionskomponenten aggressiven Plasmaumgebungen in 200mm und 300mm Ätzer- und CVD-Kammern standhalten, die ihre außergewöhnliche Plasmawiderstandsfähigkeit und Zuverlässigkeit in der realen Halbleiterherstellungsanwendungen unter Beweis stellen.
Related Product Features:
  • Die außergewöhnliche Plasmabeständigkeit verlängert die Lebensdauer, indem sie aggressiven Plasmaumgebungen in Ätzer- und Ablagerungskammern standhält.
  • Hohe dielektrische Festigkeit bietet eine hervorragende elektrische Isolierung, um Stromverluste und Lichtbögen zu verhindern.
  • Eine hohe Korrosionsbeständigkeit gewährleistet die geometrische Integrität gegen Halogen- und andere Prozessgase.
  • 99,8 % Reinheit von Aluminiumoxid minimiert metallische Verunreinigungen für die Herstellung von Wafern hoher Reinheit.
  • Hervorragende mechanische Festigkeit gewährleistet die strukturelle Integrität unter thermischer und mechanischer Belastung.
  • Präzisionskonstruktion für 200 mm und 300 mm Halbleiterwerkzeuge mit engen Toleranzen.
  • Kompatibel mit den wichtigsten OEM-Plattformen, einschließlich Ätzsystemen, CVD/PVD-Systemen und Plasmareinigungskammern.
  • Hervorragende Oberflächengüten sorgen für optimale Plasmaleistung und Prozessstabilität in bestimmten Werkzeugsätzen.
FAQs:
  • Mit welchen Halbleiterwerkzeuggrößen sind diese Aluminiumoxid-Keramikringe kompatibel?
    Unsere hochreinen Keramikringe aus Aluminiumoxid A998 sind präzisionsgefertigt für 200-mm- und 300-mm-Halbleiterfertigungswerkzeuge und gewährleisten Kompatibilität mit wichtigen OEM-Plattformen und Prozessstabilität über verschiedene Wafergrößen hinweg.
  • Wie kommt der Reinheitsgrad von 99,8 % den Halbleiterherstellungsprozessen zugute?
    Die Aluminiumoxid-Reinheit von 99,8 % (Sorte A998) minimiert metallische Verunreinigungen, was für die Einhaltung hochreiner Wafer-Herstellungsstandards und das Erreichen optimaler Ausbeuteraten bei empfindlichen Halbleiterprozessen von entscheidender Bedeutung ist.
  • In welchen spezifischen Halbleiteranwendungen werden diese Keramikringe typischerweise verwendet?
    Diese Komponenten sind wichtige Verbrauchsmaterialien in Ätzsystemen als Fokusringe und Kammerauskleidungen, in CVD/PVD-Systemen als Kragenkantenringe und Einsätze und in Plasmareinigungskammern als langlebige Auskleidungen, die der Erosion durch O₂- oder NF₃-Plasmen widerstehen.
  • Was macht diese Keramikringe gegen Plasma-Umgebungen beständig?
    Die außergewöhnliche Plasmabeständigkeit resultiert aus den Eigenschaften des hochreinen Aluminiumoxidmaterials, das aggressiven Plasmaumgebungen in Ätz- und Abscheidungskammern standhält, die Partikelbildung reduziert und die Lebensdauer der Komponenten verlängert.
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