logo
Welkom bij Shaanxi KeGu New Material Technology Co., Ltd
8616602956098
Huis / Producten / Alumina Ceramische Componenten / Hoge zuiverheid aluminium A998 (99,8%) Keramische ringen voor 200 mm en 300 mm halfgeleidergereedschappen met uitzonderlijke plasmaweerstand
Kwaliteit Hoge zuiverheid aluminium A998 (99,8%) Keramische ringen voor 200 mm en 300 mm halfgeleidergereedschappen met uitzonderlijke plasmaweerstand fabriek
Kwaliteit Hoge zuiverheid aluminium A998 (99,8%) Keramische ringen voor 200 mm en 300 mm halfgeleidergereedschappen met uitzonderlijke plasmaweerstand fabriek
Kwaliteit Hoge zuiverheid aluminium A998 (99,8%) Keramische ringen voor 200 mm en 300 mm halfgeleidergereedschappen met uitzonderlijke plasmaweerstand fabriek
Kwaliteit Hoge zuiverheid aluminium A998 (99,8%) Keramische ringen voor 200 mm en 300 mm halfgeleidergereedschappen met uitzonderlijke plasmaweerstand fabriek
Kwaliteit Hoge zuiverheid aluminium A998 (99,8%) Keramische ringen voor 200 mm en 300 mm halfgeleidergereedschappen met uitzonderlijke plasmaweerstand fabriek
Kwaliteit Hoge zuiverheid aluminium A998 (99,8%) Keramische ringen voor 200 mm en 300 mm halfgeleidergereedschappen met uitzonderlijke plasmaweerstand fabriek
Kwaliteit Hoge zuiverheid aluminium A998 (99,8%) Keramische ringen voor 200 mm en 300 mm halfgeleidergereedschappen met uitzonderlijke plasmaweerstand fabriek
Kwaliteit Hoge zuiverheid aluminium A998 (99,8%) Keramische ringen voor 200 mm en 300 mm halfgeleidergereedschappen met uitzonderlijke plasmaweerstand fabriek

Hoge zuiverheid aluminium A998 (99,8%) Keramische ringen voor 200 mm en 300 mm halfgeleidergereedschappen met uitzonderlijke plasmaweerstand

Basis eigenschappen
Plaats van herkomst: China
Merknaam: KEGU
Modelnummer: Aanpasbaar
Handelsgoederen
Prijs: 200-500 yuan/kg
Betalingsvoorwaarden: L/C,D/A,D/P,T/T,Western Union,MoneyGram
Leveringscapaciteit: 2.000 PCs/maand
Tags

Filterbox van aluminiumsilicaat

soepele stroom

filterbox van aluminiumsilicaat
Productoverzicht
Geavanceerde Alumina Keramische Ringen voor Semiconductor Apparatuur Wij produceren hoogwaardige Alumina Keramische Ringen speciaal ontworpen voor kritische toepassingen in semiconductor plasmaverwerkingsapparatuur. Gemaakt van Hoogzuiver Alumina A998 (99,8%), onze componenten bieden ongeëvenaarde ...

Productdetails

Markeren:

Hoge Zuiverheid Aluminiumoxide Keramische Ring

,

Aluminiumoxide Keramische Focus Ring

,

Aluminiumoxide Keramische Rand Ring
Material: Sic
Composition:SiC: >85%
Color: Zwart
Density: ≥ 3,65 g/cm3
Max. Service Temp: 1380 ℃
Flexural Strength: 250 MPa
Hardness: ≥ 84HRA
Water Absorption: ≤0,2%
Abrasion: < 0,02%
Bending Strength: ≥290MPa
Productomschrijving
Geavanceerde Alumina Keramische Ringen voor Semiconductor Apparatuur
Wij produceren hoogwaardige Alumina Keramische Ringen speciaal ontworpen voor kritische toepassingen in semiconductor plasmaverwerkingsapparatuur. Gemaakt van Hoogzuiver Alumina A998 (99,8%), onze componenten bieden ongeëvenaarde plasmabestendigheid en betrouwbaarheid in veeleisende ets- en CVD-kamers.
Productoverzicht
  • Kraagrandringen / Dep-ringen
  • Focusringen
  • Kamerinzetstukken & Voeringen
  • Andere Aangepaste Proceskit Componenten
Deze componenten zijn precisie-ontworpen om te voldoen aan de strenge eisen van 200mm en 300mm semiconductor fabricagetools, waardoor processtabiliteit en opbrengst worden gegarandeerd.
Belangrijkste Materiaaleigenschappen & Voordelen
Eigenschap Voordeel voor Uw Proces
Uitzonderlijke Plasmabestendigheid Verlengt de Levensduur: Bestand tegen agressieve plasma-omgevingen in ets- en depositiekamers, waardoor deeltjesgeneratie en de frequentie van vervanging worden verminderd.
Hoge Diëlektrische Sterkte Superieure Elektrische Isolatie: Voorkomt stroomlekkage en vonkvorming, waardoor processtabiliteit wordt gewaarborgd en gevoelige kamercomponenten worden beschermd.
Hoge Corrosiebestendigheid Chemisch Inert: Bestand tegen corrosie door halogenen (bijv. CF₄, Cl₂) en andere procesgassen, waardoor de geometrische integriteit en procesconsistentie behouden blijven.
Hoge Zuiverheid (A998) Minimaliseert Verontreiniging: 99,8% alumina-gehalte zorgt voor geen metallische verontreiniging, wat cruciaal is voor de productie van wafers met hoge zuiverheid en hoge opbrengst.
Uitstekende Mechanische Sterkte Duurzaam en Betrouwbaar: Behoudt structurele integriteit onder thermische en mechanische belasting, waardoor langdurige prestaties worden gegarandeerd en ongeplande uitvaltijd wordt verminderd.
Primaire Toepassingen in Semiconductor Fabricage
Onze keramische ringen zijn essentiële verbruiksartikelen en componenten binnen plasmakamers:
  • Ets Systemen: Gebruikt als Focusringen en Kamervoeringen in Diëlektrische en Geleider Ets tools om de plasmadichtheid nauwkeurig te regelen en kamerwanden te beschermen.
  • CVD/PVD Systemen: Dienen als Kraagrandringen en Inzetstukken om de verwerkingsomgeving te definiëren en ongewenste depositie te voorkomen.
  • Plasma Reinigingskamers: Fungeren als duurzame Voeringen die bestand zijn tegen erosie door O₂ of NF₃ plasma's, waardoor de onderhoudscycli worden verlengd.
Waarom Kiezen voor Onze Alumina Keramische Ringen?
  • Gefabriceerd voor Precisie: Wij zijn gespecialiseerd in het produceren van componenten met nauwe toleranties en superieure oppervlakteafwerkingen, waardoor een perfecte pasvorm en optimale plasmaprestaties in uw specifieke toolset worden gegarandeerd.
  • Ontworpen voor Prestaties: Onze focus op materiaalkunde en engineering resulteert in onderdelen die een langere levensduur, minder deeltjes en een verbeterde procesherhaalbaarheid leveren.
  • Compatibel met Belangrijke Platforms: Onze producten zijn ontworpen voor gebruik in een breed scala aan 200mm en 300mm semiconductor apparatuur van toonaangevende OEM's.
Op zoek naar een betrouwbare partner voor uw semiconductor keramische componenten? Neem vandaag nog contact met ons op voor technische specificaties, prijzen en om aangepaste oplossingen voor uw toepassing te bespreken.

Miss. Scarlett.S

Deputy Head of Foreign Trade Department

Gerelateerde producten

Stuur een aanvraag