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Casa / produtos / Componentes cerâmicos da alumina / Anéis de cerâmica de alumina de alta pureza A998 (99,8%) para ferramentas de semicondutores de 200 mm e 300 mm com excepcional resistência ao plasma
Qualidade Anéis de cerâmica de alumina de alta pureza A998 (99,8%) para ferramentas de semicondutores de 200 mm e 300 mm com excepcional resistência ao plasma fábrica
Qualidade Anéis de cerâmica de alumina de alta pureza A998 (99,8%) para ferramentas de semicondutores de 200 mm e 300 mm com excepcional resistência ao plasma fábrica
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Anéis de cerâmica de alumina de alta pureza A998 (99,8%) para ferramentas de semicondutores de 200 mm e 300 mm com excepcional resistência ao plasma

Propriedades Básicas
Local de Origem: China
Marca: KEGU
Número do modelo: Personalizável
Propriedades comerciais
Preço: 200-500 yuan/kg
Condições de pagamento: L/C,D/A,D/P,T/T,Western Union,MoneyGram
Capacidade de fornecimento: 2.000 PCes/mês
Tags

Caixa de filtro de silicato de alumínio Fluxo suave

Caixa de filtro de silicato de alumínio sem pré-aquecimento

Peças de cerâmica de alumina
Resumo do Produto
Anéis cerâmicos de alumínio avançados para equipamentos de semicondutores Nós fabricamos alta performanceAnéis cerâmicos de alumíniofabricados especialmente para aplicações críticas em equipamentos de processamento de plasma semicondutores.Alumínio de alta pureza A998 (99,8%), os nossos componentes ...

Detalhes do produto

Destacar:

Anel de cerâmica de alumina de alta pureza

,

Anel de foco de cerâmica de alumina

,

Anel de borda de cerâmica de alumina
Material: Sic
Composition:SiC: >85%
Color: Preto
Density: ≥ 3,65 g/cm3
Max. Service Temp: 1380 ℃
Flexural Strength: 250 MPa
Hardness: ≥ 84HRA
Water Absorption: ≤0,2%
Abrasion: < 0,02%
Bending Strength: ≥290MPa
Descrição do produto
Anéis cerâmicos de alumínio avançados para equipamentos de semicondutores
Nós fabricamos alta performanceAnéis cerâmicos de alumíniofabricados especialmente para aplicações críticas em equipamentos de processamento de plasma semicondutores.Alumínio de alta pureza A998 (99,8%), os nossos componentes fornecem resistência ao plasma e fiabilidade incomparáveis em câmaras de gravação e CVD exigentes.
Visão geral do produto
  • Anéis de borda do colarinho / Anéis de profundidade
  • Anéis de foco
  • Inserções e revestimentos de câmara
  • Outros componentes personalizados do kit de processos
Estes componentes são concebidos com precisão para satisfazer os rigorosos requisitos deFerramentas de fabrico de semicondutores de 200 mm e 300 mm, assegurando a estabilidade do processo e o rendimento.
Principais propriedades e vantagens do material
Características Benefícios para o seu processo
Resistência excepcional ao plasma Prolonga a vida útil:Resiste a ambientes de plasma agressivos em câmaras de gravação e deposição, reduzindo a geração de partículas e a frequência de substituição.
Alta resistência dielétrica Isolamento elétrico superior:Previne a fuga de corrente e o arco, garantindo a estabilidade do processo e protegendo os componentes sensíveis da câmara.
Alta resistência à corrosão Químicamente inerte:Resiste à corrosão por halogênio (por exemplo, CF4, Cl2) e outros gases de processo, mantendo a integridade geométrica e a consistência do processo.
Alta pureza (A998) Minimiza a contaminação:99O teor de alumina de 0,8% garante nenhuma contaminação metálica, o que é crítico para a fabricação de wafers de alta pureza e altas taxas de rendimento.
Excelente resistência mecânica Durável e Fiável:Mantenha a integridade estrutural sob tensão térmica e mecânica, garantindo o desempenho a longo prazo e reduzindo o tempo de inatividade não programado.
Aplicações primárias na fabricação de semicondutores
Os nossos anéis de cerâmica são consumíveis vitais e componentes dentro das câmaras de plasma:
  • Sistemas Etch:Utilizado comoAnéis de focoeRevestimentos para câmarasem ferramentas de gravação dielétrica e condutora para controlar com precisão a densidade do plasma e proteger as paredes da câmara.
  • Sistemas CVD/PVD:Servir comoAnéis na borda do colarinhoeInsertosPara definir o ambiente de processamento e evitar a deposição indesejada.
  • Câmaras de limpeza de plasma:Agir como durávelCaminhõesque resistem à erosão dos plasmas O2 ou NF3, prolongando os ciclos de manutenção.
Por que escolher nossos anéis de cerâmica de alumínio?
  • Fabricados para precisão:Especializamo-nos na produção de componentes com tolerâncias apertadas e acabamentos de superfície superiores, garantindo um ajuste perfeito e desempenho óptimo de plasma no seu conjunto de ferramentas específico.
  • Projetado para desempenho:Nosso foco em ciência e engenharia de materiais resulta em peças que oferecem maior vida útil, menor contagem de partículas e melhor repetibilidade do processo.
  • Compatível com as principais plataformas:Os nossos produtos são concebidos para ser utilizados numa ampla gama deEquipamento de semicondutores de 200 mm e 300 mmdos principais fabricantes de equipamentos.
Procuram um parceiro confiável para os seus componentes cerâmicos semicondutores?Entre em contato conosco hoje para especificações técnicas, preços e para discutir soluções personalizadas para sua aplicação.

Miss. Scarlett.S

Deputy Head of Foreign Trade Department

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