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Willkommen bei Shaanxi KeGu New Material Technology Co., Ltd
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Haus / Produits / Tonerde-keramische Komponenten / Hochreine Aluminiumoxid-A998 (99,8 %) Keramikringe für 200-mm- und 300-mm-Halbleiterwerkzeuge mit außergewöhnlicher Plasmabeständigkeit
Qualität Hochreine Aluminiumoxid-A998 (99,8 %) Keramikringe für 200-mm- und 300-mm-Halbleiterwerkzeuge mit außergewöhnlicher Plasmabeständigkeit Fabrik
Qualität Hochreine Aluminiumoxid-A998 (99,8 %) Keramikringe für 200-mm- und 300-mm-Halbleiterwerkzeuge mit außergewöhnlicher Plasmabeständigkeit Fabrik
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Qualität Hochreine Aluminiumoxid-A998 (99,8 %) Keramikringe für 200-mm- und 300-mm-Halbleiterwerkzeuge mit außergewöhnlicher Plasmabeständigkeit Fabrik
Qualität Hochreine Aluminiumoxid-A998 (99,8 %) Keramikringe für 200-mm- und 300-mm-Halbleiterwerkzeuge mit außergewöhnlicher Plasmabeständigkeit Fabrik

Hochreine Aluminiumoxid-A998 (99,8 %) Keramikringe für 200-mm- und 300-mm-Halbleiterwerkzeuge mit außergewöhnlicher Plasmabeständigkeit

Grundlegende Eigenschaften
Herkunftsort: China
Markenname: KEGU
Modellnummer: Anpassbar
Immobilienhandel
Preis: 200-500 yuan/kg
Zahlungsbedingungen: L/C, D/A, D/P, T/T, Western Union, MoneyGram
Lieferfähigkeit: 2.000 PC/Monat
Tags

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Alumina -Keramikteile
Produktübersicht
Fortschrittliche Aluminiumoxid-Keramikringe für Halbleitergeräte Wir fertigen leistungsstarkRinge aus Aluminiumoxidkeramikspeziell für kritische Anwendungen in Halbleiter-Plasmaverarbeitungsgeräten entwickelt. Hergestellt ausHochreines Aluminiumoxid A998 (99,8 %)Unsere Komponenten bieten un...

Produktdetails

Hervorheben:

Hochreiner Aluminiumoxid-Keramikring

,

Aluminiumoxid-Keramik-Fokusring

,

Aluminiumoxid-Keramik-Kantenring
Material: Sic
Composition:SiC: >85 %
Color: Schwarz
Density: ≥ 3,65 g/cm3
Max. Service Temp: 1380 ℃
Flexural Strength: 250 MPa
Hardness: ≥84HRA
Water Absorption: ≤ 0,2%
Abrasion: < 0,02%
Bending Strength: ≥290MPa
Produkt-Beschreibung
Fortschrittliche Aluminiumoxid-Keramikringe für Halbleitergeräte
Wir fertigen leistungsstarkRinge aus Aluminiumoxidkeramikspeziell für kritische Anwendungen in Halbleiter-Plasmaverarbeitungsgeräten entwickelt. Hergestellt ausHochreines Aluminiumoxid A998 (99,8 %)Unsere Komponenten bieten unübertroffene Plasmabeständigkeit und Zuverlässigkeit in anspruchsvollen Ätz- und CVD-Kammern.
Produktübersicht
  • Kragenrandringe / Dep-Ringe
  • Fokusringe
  • Kammereinsätze und Liner
  • Andere kundenspezifische Prozesskit-Komponenten
Diese Komponenten sind präzisionsgefertigt, um die strengen Anforderungen von zu erfüllen200-mm- und 300-mm-Halbleiterfertigungswerkzeuge, wodurch Prozessstabilität und Ausbeute gewährleistet werden.
Wichtige Materialeigenschaften und Vorteile
Besonderheit Nutzen Sie Ihren Prozess
Außergewöhnliche Plasmabeständigkeit Verlängert die Lebensdauer:Widersteht aggressiven Plasmaumgebungen in Ätz- und Abscheidungskammern und reduziert so die Partikelerzeugung und die Häufigkeit des Austauschs.
Hohe Spannungsfestigkeit Hervorragende elektrische Isolierung:Verhindert Leckströme und Lichtbögen, sorgt für Prozessstabilität und schützt empfindliche Kammerkomponenten.
Hohe Korrosionsbeständigkeit Chemisch inert:Beständig gegen Korrosion durch halogenbasierte (z. B. CF₄, Cl₂) und andere Prozessgase und sorgt für geometrische Integrität und Prozesskonsistenz.
Hohe Reinheit (A998) Minimiert die Kontamination:Der Aluminiumoxidgehalt von 99,8 % stellt sicher, dass keine metallischen Verunreinigungen vorhanden sind, was für die Herstellung hochreiner Wafer und hohe Ausbeuten von entscheidender Bedeutung ist.
Ausgezeichnete mechanische Festigkeit Langlebig und zuverlässig:Behält die strukturelle Integrität unter thermischer und mechanischer Belastung bei, sorgt für langfristige Leistung und reduziert ungeplante Ausfallzeiten.
Hauptanwendungen in der Halbleiterfertigung
Unsere Keramikringe sind wichtige Verbrauchsmaterialien und Komponenten in Plasmakammern:
  • Ätzsysteme:Verwendet alsFokusringeUndKammereinlagenin Werkzeugen zum Ätzen von Dielektrika und Leitern, um die Plasmadichte präzise zu steuern und Kammerwände zu schützen.
  • CVD/PVD-Systeme:Servieren alsKragenrandringeUndEinlagenum die Verarbeitungsumgebung zu definieren und unerwünschte Ablagerungen zu verhindern.
  • Plasma-Reinigungskammern:Als langlebig fungierenLinerdie der Erosion durch O₂- oder NF₃-Plasmen widerstehen und so die Wartungszyklen verlängern.
Warum sollten Sie sich für unsere Aluminiumoxid-Keramikringe entscheiden?
  • Hergestellt für Präzision:Wir sind auf die Herstellung von Komponenten mit engen Toleranzen und hervorragenden Oberflächengüten spezialisiert und gewährleisten so eine perfekte Passform und optimale Plasmaleistung in Ihrem spezifischen Werkzeugsatz.
  • Auf Leistung ausgelegt:Unser Fokus auf Materialwissenschaft und Technik führt zu Teilen, die eine längere Lebensdauer, eine geringere Partikelanzahl und eine verbesserte Prozesswiederholbarkeit bieten.
  • Kompatibel mit den wichtigsten Plattformen:Unsere Produkte sind für den Einsatz in einer Vielzahl von Bereichen konzipiert200-mm- und 300-mm-Halbleiterausrüstungvon führenden OEMs.
Sie suchen einen zuverlässigen Partner für Ihre Halbleiter-Keramik-Komponenten?Kontaktieren Sie uns noch heute, um technische Spezifikationen und Preise zu erfahren und maßgeschneiderte Lösungen für Ihre Anwendung zu besprechen.

Miss. Scarlett.S

Deputy Head of Foreign Trade Department

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