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Casa / prodotti / Componenti ceramiche dell'allumina / Anelli ceramici in allumina ad alta purezza A998 (99,8%) per strumenti a semiconduttore da 200 mm e 300 mm con eccezionale resistenza al plasma
Qualità Anelli ceramici in allumina ad alta purezza A998 (99,8%) per strumenti a semiconduttore da 200 mm e 300 mm con eccezionale resistenza al plasma fabbrica
Qualità Anelli ceramici in allumina ad alta purezza A998 (99,8%) per strumenti a semiconduttore da 200 mm e 300 mm con eccezionale resistenza al plasma fabbrica
Qualità Anelli ceramici in allumina ad alta purezza A998 (99,8%) per strumenti a semiconduttore da 200 mm e 300 mm con eccezionale resistenza al plasma fabbrica
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Qualità Anelli ceramici in allumina ad alta purezza A998 (99,8%) per strumenti a semiconduttore da 200 mm e 300 mm con eccezionale resistenza al plasma fabbrica

Anelli ceramici in allumina ad alta purezza A998 (99,8%) per strumenti a semiconduttore da 200 mm e 300 mm con eccezionale resistenza al plasma

Proprietà di base
Luogo d'origine: Cina
Marchio: KEGU
Numero di modello: Personalizzabile
Proprietà Commerciali
Prezzo: 200-500 yuan/kg
Termini di pagamento: L/C,D/A,D/P,T/T,Western Union,MoneyGram
Capacità di fornitura: 2.000 pc/mese
Tag

Flusso liscio della scatola di filtro in silicato di alluminio

Casella di filtro in silicato di alluminio senza pre riscaldamento

Parti in ceramica di allumina
Riepilogo Prodotto
Anelli ceramici avanzati in allumina per apparecchiature a semiconduttore Produciamo prodotti ad alte prestazioni.Anelli in ceramica di alluminacon una lunghezza massima di 20 mm o più ma non superiore a 30 mm,Alumina di alta purezza A998 (99,8%), i nostri componenti forniscono una resistenza al ...

Dettagli del prodotto

Evidenziare:

Anello in ceramica di allumina di alta purezza

,

Anello focale in ceramica di alluminio

,

Anello di bordo in ceramica di alluminio
Material: Sic
Composition:SiC: >85%
Color: Nero
Density: ≥3.65g/cm3
Max. Service Temp: 1380 ℃
Flexural Strength: 250MPa
Hardness: ≥84HRA
Water Absorption: ≤0,2%
Abrasion: < 0,02%
Bending Strength: ≥290MPa
Descrizione di prodotto
Anelli ceramici avanzati in allumina per apparecchiature a semiconduttore
Produciamo prodotti ad alte prestazioni.Anelli in ceramica di alluminacon una lunghezza massima di 20 mm o più ma non superiore a 30 mm,Alumina di alta purezza A998 (99,8%), i nostri componenti forniscono una resistenza al plasma e affidabilità senza pari nelle camere di incisione e CVD.
Visualizzazione del prodotto
  • Anelli di bordo del colletto / anelli di profondità
  • Anelli di messa a fuoco
  • Inserti e rivestimenti della camera
  • Altri componenti del kit di processo personalizzati
Questi componenti sono progettati con precisione per soddisfare i severi requisitiStrumenti per la fabbricazione di semiconduttori di 200 mm e 300 mm, garantendo la stabilità del processo e il rendimento.
Proprietà e vantaggi principali del materiale
Caratteristica Benefici per il vostro processo
Resistenza al plasma eccezionale Prolunga la vita utile:Resiste a ambienti plasmatici aggressivi nelle camere di incisione e di deposizione, riducendo la generazione di particelle e la frequenza di sostituzione.
Alta resistenza dielettrica Isolamento elettrico superiore:Previene le perdite di corrente e l'arco, garantendo la stabilità del processo e proteggendo i componenti sensibili della camera.
Alta resistenza alla corrosione Inerte chimicamente:Resistente alla corrosione da parte di gas a base di alogeni (ad esempio, CF4, Cl2) e altri gas di processo, mantenendo l'integrità geometrica e la consistenza del processo.
Alta purezza (A998) Minimizza la contaminazione:99Il contenuto di allumina pari allo 0,8% garantisce l'assenza di contaminazione metallica, che è fondamentale per la produzione di wafer ad alta purezza e per un alto rendimento.
Eccellente resistenza meccanica Durabile e affidabile:Mantiene l'integrità strutturale sotto stress termico e meccanico, garantendo prestazioni a lungo termine e riducendo i tempi di inattività non pianificati.
Applicazioni primarie nella produzione di semiconduttori
I nostri anelli di ceramica sono consumabili vitali e componenti nelle camere al plasma:
  • Sistemi Etch:Utilizzato comeAnelli di messa a fuoco- eInfissi di camerein Dielettrico e Conductor Etch strumenti per controllare con precisione la densità del plasma e proteggere le pareti della camera.
  • Sistemi CVD/PVD:Servire comeAnelli sul bordo del colletto- eInsertidefinire l'ambiente di lavorazione e prevenire depositi indesiderati.
  • Camere di pulizia del plasma:Agire come durevoleAltre naviche resistono all'erosione da plasma O2 o NF3, prolungando i cicli di manutenzione.
Perché scegliere i nostri anelli in ceramica di allumina?
  • Prodotto per la precisione:Siamo specializzati nella produzione di componenti con tolleranze strette e finiture superficiali superiori, garantendo un perfetto adattamento e prestazioni plasmatiche ottimali nel tuo set di strumenti specifico.
  • Progettato per prestazioni:La nostra attenzione alla scienza dei materiali e all'ingegneria si traduce in parti che offrono una durata di vita più lunga, un numero ridotto di particelle e una migliore ripetibilità dei processi.
  • Compatibile con le principali piattaforme:I nostri prodotti sono progettati per l'uso in una vasta gamma diattrezzature per semiconduttori da 200 mm e 300 mmdai principali OEM.
Cerchi un partner affidabile per i tuoi componenti ceramici semiconduttori?Contattaci oggi per le specifiche tecniche, i prezzi e per discutere soluzioni personalizzate per la tua applicazione.

Miss. Scarlett.S

Deputy Head of Foreign Trade Department

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