Componentes cerámicos de carburo de silicio de alta resistencia a la corrosión para aplicaciones de semiconductores en cúpulas HDPCVD de 200 mm/300 mm
Propiedades básicas
Lugar de origen:
Porcelana
Nombre de la marca:
KEGU
Número de modelo:
Personalizable
Propiedades comerciales
Cantidad mínima de pedido:
Negociable
Precio:
Negociable
Condiciones de pago:
LC, D/A, D/P, T/T, Western Union, MoneyGram
Resumen del producto
Partes cerámicas industriales de alta resistencia a la corrosión: cúpulas y componentes HDPCVD Soluciones cerámicas avanzadas para aplicaciones de semiconductores exigentesNuestros componentes cerámicos industriales de alto rendimiento están diseñados para entornos extremos en la fabricación de ...
Detalles del producto
Resaltar:
Componentes cerámicos de carburo de silicio de alta resistencia a la corrosión
,Cúpula HDPCVD para aplicaciones de semiconductores
,Piezas cerámicas industriales en configuraciones de 200 mm/300 mm
Usage:
Uso de la industria
Chemical Composition:
Al2O3, SiO2
Sic Content:
85%
Maximum Temperature:
1600 ℃
Characteristics:
Alta resistencia al desgaste
Thermal Expansion Coefficient:
4,0-4,5 × 10^-6/K
Material Composition:
4%Si >96%Sic
Working Temperature:
1650
Advantage:
Resistencia al desgaste y a la abrasión
Purity:
98%
Material:
cerámica de carburo de silicio
Acid Alkaline Proof:
Excelente
Solubility:
Insoluble
Open Porosity:
<0,1%
Flexural Strength:
350 a 550 MPa
Descripción de producto
Partes cerámicas industriales de alta resistencia a la corrosión: cúpulas y componentes HDPCVD
Soluciones cerámicas avanzadas para aplicaciones de semiconductores exigentes
Nuestros componentes cerámicos industriales de alto rendimiento están diseñados para entornos extremos en la fabricación de semiconductores, incluidos los procesos de deposición de vapor químico de plasma de alta densidad (HDPCVD).Disponible en múltiples opciones de materiales para satisfacer las necesidades térmicas específicas, requisitos de resistencia mecánica y a la corrosión.
Nuestros componentes cerámicos industriales de alto rendimiento están diseñados para entornos extremos en la fabricación de semiconductores, incluidos los procesos de deposición de vapor químico de plasma de alta densidad (HDPCVD).Disponible en múltiples opciones de materiales para satisfacer las necesidades térmicas específicas, requisitos de resistencia mecánica y a la corrosión.
Productos de cúpula HDPCVD
Tipos y especificaciones disponibles:
- Cúpula HDP estándar: configuraciones de 200 mm / 300 mm
- El SpeedDome: Optimizado para procesos de alto rendimiento
- Cúpula DPS: Diseños mejorados de resistencia al plasma
- Roughness a medida: acabado de la superficie del contorno interior de Ra 0,5 a Ra 5.3
- Beneficios clave: Previene el derrame de película, minimiza la contaminación por partículas, es compatible con diversos requisitos del proceso
Guía de selección de materiales
| Propiedad | Alumina (Al2O3) | Nitrato de aluminio (AlN) | Circonio (ZrO2) | Carburo de silicio (SiC) | Zafiro (Cristal único Al2O3) |
|---|---|---|---|---|---|
| Densidad (g/cm3) | 3.9 | 3.3 | 6.0 | 3.21 | 3.97 |
| Dureza (GPa) | 14 y 17 | 10 y 12 | 13 | 27 y 28 | 22.5 |
| Modulo elástico (GPa) | 350 a 400 | Entre 300 y 350 | Entre 200 y 250 | Las demás: | 440 a 690 |
| Durabilidad a la fractura (MPa*m1/2) | 3 y 4 | 2.8-3.3 | El 10 al 11 | 3.5-3.6 | 2.6 |
| Conductividad térmica (W/m*K) | 28 a 32 años | 180 a 200 | 2 y 3 | 160 a 200 | 40 |
| Resistencia al choque térmico | 200 a 280 °C | Es excelente. | 300 °C | Es excelente. | 800 °C |
| Constante dieléctrica (1MHz) | 9.8 | 8.5 a 9 | Entre 30 y 33 | Conductivo | 9.3 |
| Resistencia por volumen (Ω*cm) | > 1014 | > 1014 | Adjustable | Varias | > 1014 |
Ventajas clave del material
Alumina (Al2O3)
- Excelente estabilidad química y resistencia a la corrosión
- Alta dureza y resistencia al desgaste
- Ideal para componentes de desgaste, sustratos aislantes, recipientes resistentes a la corrosión
Nitrato de aluminio (AlN)
- Conductividad térmica superior para la disipación de calor
- Excelentes propiedades de aislamiento eléctrico
- Perfecto para disipadores de calor electrónicos, embalaje de dispositivos de alta potencia
Circonio (ZrO2)
- Resistencia excepcional a las fracturas
- Mecanismo de endurecimiento por transformación
- Apto para herramientas de corte, sensores de oxígeno, pilas de combustible
Carburo de silicio (SiC)
- Dureza extrema y conductividad térmica
- Excelente para blindaje balístico, rodamientos de alta temperatura, componentes de semiconductores
Zafiro (Cristal único Al2O3)
- Transparencia óptica combinada con una alta dureza
- Resistencia superior a las descargas térmicas
- Ideal para aplicaciones ópticas especializadas y ambientes extremos
Características de rendimiento
- Resistencia a la corrosión superior: Resiste ambientes químicos agresivos en el procesamiento de semiconductores
- Generación mínima de partículas: Las superficies diseñadas reducen la contaminación en los ambientes de las salas limpias
- Propiedades de superficie personalizables: rugosidad y acabado adaptados a las necesidades específicas del proceso
- Estabilidad térmica: Mantiene la integridad dimensional en ciclos térmicos rápidos
- Aislamiento eléctrico: Excelentes propiedades dieléctricas para aplicaciones de plasma
Aplicaciones
- Procesamiento de semiconductores: cámaras HDPCVD, componentes de grabado, entornos de plasma
- Embalaje electrónico: Dispersores de calor, sustratos aislantes
- Componentes industriales: piezas resistentes al desgaste, recipientes resistentes a la corrosión
- Investigación avanzada: Equipos de laboratorio especializados, componentes ópticos
Miss. Scarlett.S
Deputy Head of Foreign Trade Department
- Correo electrónico: scarlett.s@kegugroup.com
- Teléfono: 8616602956098
- whatsapp: 8613390790728
-
El Wechat:
Scarlettseren533
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