Componentes cerâmicos de carburo de silício de alta resistência à corrosão para aplicações de semicondutores em cupos HDPCVD de 200 mm/300 mm
Propriedades Básicas
Local de Origem:
China
Marca:
KEGU
Número do modelo:
Personalizável
Propriedades comerciais
Quantidade mínima de pedido:
Negociável
Preço:
Negociável
Condições de pagamento:
L/C,D/A,D/P,T/T,Western Union,MoneyGram
Resumo do Produto
Partes cerâmicas industriais de alta resistência à corrosão: cúpulas e componentes HDPCVD Soluções cerâmicas avançadas para aplicações de semicondutores exigentesOs nossos componentes cerâmicos industriais de alto desempenho são projetados para ambientes extremos na fabricação de semicondutores, ...
Detalhes do produto
Destacar:
Componentes Cerâmicos de Carbeto de Silício com Alta Resistência à Corrosão
,Cúpula HDPCVD para Aplicações em Semicondutores
,Peças Cerâmicas Industriais em Configurações de 200mm/300mm
Usage:
Uso da indústria
Chemical Composition:
Al2O3, SiO2
Sic Content:
85%
Maximum Temperature:
1600 ℃
Characteristics:
Alta resistência ao desgaste
Thermal Expansion Coefficient:
4,0-4,5 × 10^-6 /K
Material Composition:
4%Si >96%Sic
Working Temperature:
1650
Advantage:
Resistência ao desgaste e à abrasão
Purity:
98%
Material:
Cerâmica de carburo de silício
Acid Alkaline Proof:
Excelente
Solubility:
Insolúvel
Open Porosity:
<0,1%
Flexural Strength:
350-550 MPa
Descrição do produto
Partes cerâmicas industriais de alta resistência à corrosão: cúpulas e componentes HDPCVD
Soluções cerâmicas avançadas para aplicações de semicondutores exigentes
Os nossos componentes cerâmicos industriais de alto desempenho são projetados para ambientes extremos na fabricação de semicondutores, incluindo processos de deposição de vapor químico de plasma de alta densidade (HDPCVD).Disponível em múltiplas opções de materiais para atender às temperaturas específicas, requisitos de resistência mecânica e à corrosão.
Os nossos componentes cerâmicos industriais de alto desempenho são projetados para ambientes extremos na fabricação de semicondutores, incluindo processos de deposição de vapor químico de plasma de alta densidade (HDPCVD).Disponível em múltiplas opções de materiais para atender às temperaturas específicas, requisitos de resistência mecânica e à corrosão.
Produtos de cúpula HDPCVD
Tipos e especificações disponíveis:
- Domo HDP padrão: configurações de 200 mm / 300 mm
- SpeedDome: Otimizado para processos de alta produtividade
- DPS Dome: Projetos de resistência ao plasma melhorados
- Roughness por encomenda: acabamento da superfície do contorno interno de Ra 0,5 a Ra 5.3
- Principais benefícios: Previne o derramamento de filme, minimiza a contaminação por partículas, é compatível com vários requisitos de processo
Guia de selecção de material
| Imóveis | Alumínio (Al2O3) | Nitreto de alumínio (AlN) | Circónio (ZrO2) | Carbono de silício (SiC) | Safira (Al2O3) |
|---|---|---|---|---|---|
| Densidade (g/cm3) | 3.9 | 3.3 | 6.0 | 3.21 | 3.97 |
| Dureza (GPa) | 14 a 17 | 10 a 12 | 13 | 27 a 28 | 22.5 |
| Modulo elástico (GPa) | 350 a 400 | 300 a 350 | 200 a 250 | 420 a 470 | 440 a 690 |
| Resistência à fractura (MPa*m1/2) | 3 a 4 | 2.8-3.3 | 10-11 | 3.5-3.6 | 2.6 |
| Conductividade térmica (W/m*K) | 28 a 32 | 180-200 | 2 a 3 | 160-200 | 40 |
| Resistência a choques térmicos | 200-280°C | Excelente. | 300°C | Excelente. | 800°C |
| Constante dielétrica (1MHz) | 9.8 | 8.5-9 | 30 a 33 | Condutor | 9.3 |
| Resistividade por volume (Ω*cm) | > 1014 | > 1014 | Ajustável | Vários | > 1014 |
Principais vantagens materiais
Alumínio (Al2O3)
- Excelente estabilidade química e resistência à corrosão
- Alta dureza e resistência ao desgaste
- Ideal para componentes de desgaste, substratos isolantes, recipientes resistentes à corrosão
Nitreto de alumínio (AlN)
- Conductividade térmica superior para dissipação de calor
- Excelentes propriedades de isolamento elétrico
- Perfeito para dissipadores de calor eletrônicos, embalagens de dispositivos de alta potência
Circónio (ZrO2)
- Resistência à fractura excepcional
- Mecanismo de endurecimento por transformação
- Apto para ferramentas de corte, sensores de oxigénio, células de combustível
Carbono de silício (SiC)
- Dureza extrema e condutividade térmica
- Excelente para blindagem balística, rolamentos de alta temperatura, componentes de semicondutores
Safira (Al2O3)
- Transparência óptica combinada com alta dureza
- Resistência superior a choques térmicos
- Ideal para aplicações ópticas especializadas e ambientes extremos
Características de desempenho
- Resistência superior à corrosão: Resiste a ambientes químicos agressivos no processamento de semicondutores
- Geração mínima de partículas: As superfícies de engenharia reduzem a contaminação nos ambientes de salas limpas
- Propriedades de superfície personalizáveis: Especificação da rugosidade e do acabamento para satisfazer os requisitos específicos do processo
- Estabilidade térmica: Mantenha a integridade dimensional em ciclos térmicos rápidos
- Isolamento elétrico: Excelentes propriedades dieléctricas para aplicações de plasma
Aplicações
- Processamento de semicondutores: câmaras HDPCVD, componentes de gravação, ambientes de plasma
- Embalagens eletrónicasDispersores de calor, substratos isolantes
- Componentes industriais: Peças resistentes ao desgaste, recipientes resistentes à corrosão
- Investigação Avançada: Equipamento de laboratório especializado, componentes ópticos
Miss. Scarlett.S
Deputy Head of Foreign Trade Department
- E-mail: scarlett.s@kegugroup.com
- Telefone: 8616602956098
- Whatsapp: 8613390790728
-
WeChat:
Scarlettseren533
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