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Casa Prodotticeramiche a carburo di silicio

Componenti ceramici in carburo di silicio ad alta resistenza alla corrosione per applicazioni a semiconduttori in cupole HDPCVD da 200 mm/300 mm

Certificazione
Cina Shaanxi KeGu New Material Technology Co., Ltd Certificazioni
Cina Shaanxi KeGu New Material Technology Co., Ltd Certificazioni
Rassegne del cliente
NGK apprezza la nostra partnership di lunga data con Shaanxi Kegu. Le loro ceramiche SSiC eccellono per qualità e innovazione, guidando il nostro reciproco successo.

—— NGK Thermal Technology Co.,Ltd

In Huike, siamo orgogliosi della nostra lunga collaborazione con Shaanxi Kegu New Material Technology Co., Ltd., una collaborazione basata sulla fiducia, l'innovazione e l'eccellenza condivisa. La loro competenza nelle ceramiche SSiC e le soluzioni affidabili hanno costantemente supportato i nostri progetti.

—— SuzhouHuike Technology Co.,Ltd

Noi di Keda apprezziamo molto la nostra partnership di lunga data con la Shaanxi Kegu New Material Technology Co., Ltd.Le loro soluzioni ceramiche SSiC di alta qualità sono state parte integrante dei nostri progetti e ci auguriamo una continua collaborazione e un successo condiviso..

—— Keda Industrial Group Co., Ltd.

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Componenti ceramici in carburo di silicio ad alta resistenza alla corrosione per applicazioni a semiconduttori in cupole HDPCVD da 200 mm/300 mm

Componenti ceramici in carburo di silicio ad alta resistenza alla corrosione per applicazioni a semiconduttori in cupole HDPCVD da 200 mm/300 mm

descrizione
Evidenziare:

Componenti ceramici in carburo di silicio ad alta resistenza alla corrosione

,

Cupola HDPCVD per applicazioni nei semiconduttori

,

Componenti ceramici industriali con configurazioni da 200mm/300mm

Parti ceramiche industriali ad alta resistenza alla corrosione: cupole e componenti HDPCVD
Soluzioni ceramiche avanzate per applicazioni di semiconduttori esigenti
I nostri componenti ceramici industriali ad alte prestazioni sono progettati per ambienti estremi nella produzione di semiconduttori, inclusi i processi HDPCVD (High-Density Plasma Chemical Vapor Deposition). Disponibili in diverse opzioni di materiali per soddisfare specifici requisiti termici, meccanici e di resistenza alla corrosione.
Prodotti per cupole HDPCVD
Tipi e specifiche disponibili:
  • Cupola HDP standard: configurazioni da 200 mm / 300 mm
  • SpeedDome: Ottimizzato per processi ad alta produttività
  • Cupola DPS: Design a resistenza al plasma migliorati
  • Rugosità personalizzata: Finitura superficiale del profilo interno da Ra 0,5 a Ra 5,3
  • Vantaggi principali: Previene il distacco di film, riduce al minimo la contaminazione da particelle, compatibile con vari requisiti di processo
Guida alla selezione dei materiali
Proprietà Allumina (Al₂O₃) Nitrato di alluminio (AlN) Zirconia (ZrO₂) Carburo di silicio (SiC) Zaffiro (Al₂O₃ monocristallino)
Densità (g/cm³) 3.9 3.3 6.0 3.21 3.97
Durezza (GPa) 14-17 10-12 13 27-28 22.5
Modulo elastico (GPa) 350-400 300-350 200-250 420-470 440-690
Resistenza alla frattura (MPa*m¹/²) 3-4 2.8-3.3 10-11 3.5-3.6 2.6
Conducibilità termica (W/m*K) 28-32 180-200 2-3 160-200 40
Resistenza agli shock termici 200-280°C Eccellente 300°C Eccellente 800°C
Costante dielettrica (1MHz) 9.8 8.5-9 30-33 Conduttivo 9.3
Resistività volumetrica (Ω*cm) >10¹⁴ >10¹⁴ Regolabile Varia >10¹⁴
Vantaggi chiave dei materiali
Allumina (Al₂O₃)
  • Eccellente stabilità chimica e resistenza alla corrosione
  • Elevata durezza e resistenza all'usura
  • Ideale per componenti soggetti a usura, substrati isolanti, contenitori resistenti alla corrosione
Nitrato di alluminio (AlN)
  • Conducibilità termica superiore per la dissipazione del calore
  • Eccellenti proprietà di isolamento elettrico
  • Perfetto per dissipatori di calore elettronici, packaging di dispositivi ad alta potenza
Zirconia (ZrO₂)
  • Eccezionale tenacità alla frattura
  • Meccanismo di indurimento per trasformazione
  • Adatto per utensili da taglio, sensori di ossigeno, celle a combustibile
Carburo di silicio (SiC)
  • Estrema durezza e conducibilità termica
  • Eccellente per armature balistiche, cuscinetti per alte temperature, componenti per semiconduttori
Zaffiro (Al₂O₃ monocristallino)
  • Trasparenza ottica combinata con elevata durezza
  • Resistenza agli shock termici superiore
  • Ideale per applicazioni ottiche specializzate e in ambienti estremi
Caratteristiche di prestazione
  • Resistenza alla corrosione superiore: Resiste agli ambienti chimici aggressivi nella lavorazione dei semiconduttori
  • Generazione minima di particelle: Le superfici progettate riducono la contaminazione negli ambienti in camera bianca
  • Proprietà superficiali personalizzabili: Rugosità e finitura su misura per soddisfare specifici requisiti di processo
  • Stabilità termica: Mantiene l'integrità dimensionale durante i rapidi cicli termici
  • Isolamento elettrico: Eccellenti proprietà dielettriche per applicazioni al plasma
Applicazioni
  • Lavorazione dei semiconduttori: Camere HDPCVD, componenti per incisione, ambienti al plasma
  • Packaging elettronico: Diffusori di calore, substrati isolanti
  • Componenti industriali: Parti resistenti all'usura, contenitori resistenti alla corrosione
  • Ricerca avanzata: Apparecchiature di laboratorio specializzate, componenti ottici

Dettagli di contatto
Shaanxi KeGu New Material Technology Co., Ltd

Persona di contatto: Ms. Yuki

Telefono: 8615517781293

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