Componenti ceramici in carburo di silicio ad alta resistenza alla corrosione per applicazioni a semiconduttori in cupole HDPCVD da 200 mm/300 mm
Proprietà di base
Luogo d'origine:
Cina
Marchio:
KEGU
Numero di modello:
Personalizzabile
Proprietà Commerciali
Quantità minima di ordine:
Negoziabile
Prezzo:
Negoziabile
Termini di pagamento:
L/C,D/A,D/P,T/T,Western Union,MoneyGram
Riepilogo Prodotto
Parti ceramiche industriali ad alta resistenza alla corrosione: cupole e componenti HDPCVD Soluzioni ceramiche avanzate per applicazioni di semiconduttori esigenti I nostri componenti ceramici industriali ad alte prestazioni sono progettati per ambienti estremi nella produzione di semiconduttori, ...
Dettagli del prodotto
Evidenziare:
Componenti ceramici in carburo di silicio ad alta resistenza alla corrosione
,Cupola HDPCVD per applicazioni nei semiconduttori
,Componenti ceramici industriali con configurazioni da 200mm/300mm
Usage:
Utilizzo del settore
Chemical Composition:
Al2O3, SiO2
Sic Content:
85%
Maximum Temperature:
1600 ℃
Characteristics:
Elevata resistenza all'usura
Thermal Expansion Coefficient:
4,0-4,5 × 10^-6 /K
Material Composition:
4%Si >96%Sic
Working Temperature:
1650
Advantage:
Resistenza all'usura e all'abrasione
Purity:
98%
Material:
ceramiche a carburo di silicio
Acid Alkaline Proof:
Eccellente
Solubility:
Insolubile
Open Porosity:
<0,1%
Flexural Strength:
350-550 MPa
Descrizione di prodotto
Parti ceramiche industriali ad alta resistenza alla corrosione: cupole e componenti HDPCVD
Soluzioni ceramiche avanzate per applicazioni di semiconduttori esigenti
I nostri componenti ceramici industriali ad alte prestazioni sono progettati per ambienti estremi nella produzione di semiconduttori, inclusi i processi HDPCVD (High-Density Plasma Chemical Vapor Deposition). Disponibili in diverse opzioni di materiali per soddisfare specifici requisiti termici, meccanici e di resistenza alla corrosione.
I nostri componenti ceramici industriali ad alte prestazioni sono progettati per ambienti estremi nella produzione di semiconduttori, inclusi i processi HDPCVD (High-Density Plasma Chemical Vapor Deposition). Disponibili in diverse opzioni di materiali per soddisfare specifici requisiti termici, meccanici e di resistenza alla corrosione.
Prodotti per cupole HDPCVD
Tipi e specifiche disponibili:
- Cupola HDP standard: configurazioni da 200 mm / 300 mm
- SpeedDome: Ottimizzato per processi ad alta produttività
- Cupola DPS: Design a resistenza al plasma migliorati
- Rugosità personalizzata: Finitura superficiale del profilo interno da Ra 0,5 a Ra 5,3
- Vantaggi principali: Previene il distacco di film, riduce al minimo la contaminazione da particelle, compatibile con vari requisiti di processo
Guida alla selezione dei materiali
| Proprietà | Allumina (Al₂O₃) | Nitrato di alluminio (AlN) | Zirconia (ZrO₂) | Carburo di silicio (SiC) | Zaffiro (Al₂O₃ monocristallino) |
|---|---|---|---|---|---|
| Densità (g/cm³) | 3.9 | 3.3 | 6.0 | 3.21 | 3.97 |
| Durezza (GPa) | 14-17 | 10-12 | 13 | 27-28 | 22.5 |
| Modulo elastico (GPa) | 350-400 | 300-350 | 200-250 | 420-470 | 440-690 |
| Resistenza alla frattura (MPa*m¹/²) | 3-4 | 2.8-3.3 | 10-11 | 3.5-3.6 | 2.6 |
| Conducibilità termica (W/m*K) | 28-32 | 180-200 | 2-3 | 160-200 | 40 |
| Resistenza agli shock termici | 200-280°C | Eccellente | 300°C | Eccellente | 800°C |
| Costante dielettrica (1MHz) | 9.8 | 8.5-9 | 30-33 | Conduttivo | 9.3 |
| Resistività volumetrica (Ω*cm) | >10¹⁴ | >10¹⁴ | Regolabile | Varia | >10¹⁴ |
Vantaggi chiave dei materiali
Allumina (Al₂O₃)
- Eccellente stabilità chimica e resistenza alla corrosione
- Elevata durezza e resistenza all'usura
- Ideale per componenti soggetti a usura, substrati isolanti, contenitori resistenti alla corrosione
Nitrato di alluminio (AlN)
- Conducibilità termica superiore per la dissipazione del calore
- Eccellenti proprietà di isolamento elettrico
- Perfetto per dissipatori di calore elettronici, packaging di dispositivi ad alta potenza
Zirconia (ZrO₂)
- Eccezionale tenacità alla frattura
- Meccanismo di indurimento per trasformazione
- Adatto per utensili da taglio, sensori di ossigeno, celle a combustibile
Carburo di silicio (SiC)
- Estrema durezza e conducibilità termica
- Eccellente per armature balistiche, cuscinetti per alte temperature, componenti per semiconduttori
Zaffiro (Al₂O₃ monocristallino)
- Trasparenza ottica combinata con elevata durezza
- Resistenza agli shock termici superiore
- Ideale per applicazioni ottiche specializzate e in ambienti estremi
Caratteristiche di prestazione
- Resistenza alla corrosione superiore: Resiste agli ambienti chimici aggressivi nella lavorazione dei semiconduttori
- Generazione minima di particelle: Le superfici progettate riducono la contaminazione negli ambienti in camera bianca
- Proprietà superficiali personalizzabili: Rugosità e finitura su misura per soddisfare specifici requisiti di processo
- Stabilità termica: Mantiene l'integrità dimensionale durante i rapidi cicli termici
- Isolamento elettrico: Eccellenti proprietà dielettriche per applicazioni al plasma
Applicazioni
- Lavorazione dei semiconduttori: Camere HDPCVD, componenti per incisione, ambienti al plasma
- Packaging elettronico: Diffusori di calore, substrati isolanti
- Componenti industriali: Parti resistenti all'usura, contenitori resistenti alla corrosione
- Ricerca avanzata: Apparecchiature di laboratorio specializzate, componenti ottici
Miss. Scarlett.S
Deputy Head of Foreign Trade Department
- Email: scarlett.s@kegugroup.com
- Telefono: 8616602956098
- WhatsApp: 8613390790728
-
WeChat:
Scarlettseren533
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